发明名称 METHOD OF MEASURING AN OVERLAY OF AN OBJECT
摘要 오버레이 계측 방법에 따르면, 제 1 구조물에 대한 제 1 정보를 획득한다. 상기 제 1 구조물 상에 제 2 예비 구조물을 형성한다. 상기 제 2 예비 구조물에 대한 제 2 정보를 획득한다. 상기 제 1 정보와 상기 제 2 정보를 합성하여, 상기 제 2 예비 구조물에 대한 공정을 통해 형성될 제 2 구조물이 상기 제 1 구조물 상에 중첩된 구조에 대한 가상 정보를 획득한다. 상기 가상 정보로부터 상기 제 1 구조물과 상기 제 2 구조물 간의 가상 오버레이를 계측한다. 따라서, 상부막에 대한 패터닝 공정 전에 가상 이미지로부터 상하부 패턴들 간의 오버레이를 정확하게 계측할 수가 있다.
申请公布号 KR101670458(B1) 申请公布日期 2016.10.28
申请号 KR20100060352 申请日期 2010.06.25
申请人 삼성전자주식회사 发明人 허진석;오석환;여정호
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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