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发明名称 HEAT TREATING APPARATUSES FOR SEMICONDUCTORS AND HIGH PURITY SILICON CARBIDE PARTS FOR THE APPARATUSES AND A METHOD OF MAKING THEREOF
摘要
申请公布号 US5179049(A) 申请公布日期 1993.01.12
申请号 US19910794945 申请日期 1991.11.20
申请人 ASAHI GLASS COMPANY LTD.;PACIFIC RUNDUM COMPANY LTD. 发明人 NUMATA, HIDEJI;ONO, TAKURO;KAGEYAMA, NOBUO;FURUKAWA, KOJI;MAKIMURA, RYUHEI
分类号 C04B35/573;C30B31/10;C30B31/14 主分类号 C04B35/573
代理机构 代理人
主权项
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