发明名称 光学拾波器清扫装置
摘要 本创作之目的,系在提供一种可简单地清扫光学拾波器之对物透镜的清扫装置。就结构上而言,根据本创作,由弹簧构件所旋转之轴26,系偏心地固定于圆盘22;支持构件50,系以其一端支持用以清扫光学拾波器之对物透镜的清扫刷18,并以其另一端藉圆盘22而旋转驱动。该支持构件50系利用其长度方向之细长开口54藉由销56保持于固定构件上。藉此,清扫刷18乃可在光学拾波器之对物透镜面上,作椭圆轨道之运动。
申请公布号 TW246224 申请公布日期 1995.04.21
申请号 TW081214489 申请日期 1992.10.28
申请人 东邦股份有限公司;桑原正明 发明人 桑原正明
分类号 G11B3/58 主分类号 G11B3/58
代理机构 代理人 张毓秀 台北巿长安东路二段五十二号八楼
主权项 1.一种光学拾波器清扫装置,系属一种用以将光学拾波器之对物透镜清扫的光学拾波器清扫装置,其特征系在:此清扫装置中设有:一将该光学拾波器之对物透镜予以清扫的清扫构件;一弹簧构件;一藉该弹簧构件之作用力而作圆运动的旋转构件;以及一将上述清扫构件在第一地点予以支持,并在第二地点接受上述旋转构件之旋转力,同时在该第一及第二地点间呈自由状被保持于一定方向的支持构件。2.依申请专利范围第1项所述之光学拾波器清扫装置,其特征系在:上述旋转构件系构成可自外部操作自如,此清扫装置又具有:一容许该旋转构件向第一方向旋转,但对于与该第一方向相反之第二方向则不容许旋转之旋转规制构件;及一可解除由上述旋转规制构件对上述旋转构件所建立之旋转规制之解除构件;而藉上述旋转构件之向第一方向的旋转,以将上述弹簧构件蓄积能量,并藉上述解除构件解除上述旋转规制,而使上述弹簧构件可旋转驱动上述旋转构件者。3.依申请专利范围第1项或第2项所述之光学拾波器清扫装置,其中该清扫构件与上述支持构件系形成可装卸自如之构造者。第1图系本创作之一实施例的主要部份之透视图。第2图系将上述实施例的盖12取下状态之平图。第3图系沿第2图A-A线之断面图。第4图系沿第2图B-B线之断面图。第5图系本实施例之外观平面图。第6图系清扫刷18与清扫刷支持板20之连结部份的分解透视图。第7图系本创作之第二实施例的主要部份之平面图。第8图系沿第7图C-C线之断面图。第9图系第7图及第8图所示之实施例的动作说明图。第10图系第7图所示实施例之变
地址 日本