发明名称 具有姆指缝隙之输入装置
摘要 一种光电式键盘开关装置,其包含一第一结构,系在一模拟键盘区域中之一第一高度产生及检测出横向与纵向间隔之第一光束,该区域呈开放型态;一第二结构,系在区域中之第一高度或相近高度处产生及检测出纵向与横向间隔之第二光束,藉此使第一、二光束产生一具有交叉点之栅状型态;一第三结构,系在一第二高度产生及检测出第三光束,藉此使用者之手指对一第三光束之干涉可配合于第一、二光束在一或多个交叉点或其附近处之手指干涉而发生。
申请公布号 TW331609 申请公布日期 1998.05.11
申请号 TW086103039 申请日期 1997.03.12
申请人 夏知佑 发明人 夏知佑
分类号 G06F3/02 主分类号 G06F3/02
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种光电式键盘开关装置,其组合上包含:a)第一装置,系在一模拟键盘区域中之一第一高度产生及检测出横向与纵向间隔之第一光束,该区域系呈开放型态,b)第二装置,系在该区域中之该第一高度或相近高度处产生及检测出纵向与横向间隔之第二光束,藉此使该第一与第二光束产生一具有交叉点之栅状型态,c)第三装置,系在一第二高度产生及检测出第三光束,藉此使用者之手指对一第三光束之干涉可配合于该第一及第二光束在一或多个交点或其附近处之手指干涉而发生。2.根据申请专利范围第1项之装置,其包含记录该光束干涉之装置。3.根据申请专利范围第1项之装置,其包含一围绕该区域之架体。4.根据申请专利范围第3项之装置,其中该第一、二及三装置包含由该架体承载之发光器及检测器。5.根据申请专利范围第3项之装置,其中该架体包含一缝隙,其大小适可容许使用者姆指之上、下运动。6.根据申请专利范围第5项之装置,其中至少该光束其中一者系提供于该缝隙处。7.根据申请专利范围第2项之装置,其中该记录光束干涉之装置系包含一电脑,其具有一显示萤幕以显示光束干涉。8.根据申请专利范围第6项之装置,其中该记录光束干涉之装置系包含一电脑,其具有一显示萤幕。9.根据申请专利范围第1项之装置,其中该架体具有多数腿件,用于承载该产生及检测出光束之装置,且具有装置以容许该装置相对于该腿件之位置变动,以利调整该光束至使用者手指间距之位置。10.根据申请专利范围第3项之装置,其中该产生及检测出光束之装置包含设于架体上之光束发射器及光束检测器。11.根据申请专利范围第3项之装置,其包含设于架体上之威克罗 (VELCRO)接附装置。12.根据申请专利范围第3项之装置,其中架体具有多数腿件且腿件具有枢接点。13.根据申请专利范围第1项之装置,其包含用于调整该高度之间间距之装置。14.一种无键式输入装置,其组合上包含:a)一架体,界定出一开放式且概呈长方形之输入区域,b)一缝隙,系穿过架体且延伸于该开放输入区域与架体外部之间,c)及光束源与光束检测器,系由架体承载且产生光束越过该区域及该缝隙,用以投射于检测器上,藉此使容置于该区域中或该缝隙中之一使用者手指或姆指对该光束之干涉,即可由该检测器检测。15.根据申请专利范围第14项之装置,其中该区域具有四个角隅,且该缝隙系设于接近其中一该角隅处。16.根据申请专利范围第14项之装置,其中该光束包含位于该区域内第一高度处之第一横向与纵向光束,以及位于该区域内第二高度处且位于第一纵向光束下方之第二纵向光束。17.根据申请专利范围第16项之装置,其中该光束感应器及光束检测器系依以下至少其中一模式而做较可变动之承载:i)大致平行于一由该第一光束所界定之平面,ii)大致垂直于一由该第一光束所界定之平面。18.根据申请专利范围第7项之装置,其中该萤幕具有一位址区域,用于显示对应于该交叉点之键。19.根据申请专利范围第18项之装置,其包含键变色装置,系对应于该光束在该交叉点处受使用者手指之干涉。20.根据申请专利范围第19项之装置,其中该位址区域具有相关联之可见键A、B、C…;该交叉点包含在一顶部高度之交叉点A'、B'、C'…,且对应于各该键A、B、C…;及该第二纵向光束通过对应于各该键A、B、C之交叉点A'、B'、C'下方。21.一种无键式输入装置,其组合上包含:a)装置,系在交叉点处提供光束相交,b)电路,系依使用者手指容置于该交叉点处而检测出在该交叉点处之光束干涉,c)及一萤幕,用于显示代表该交叉点之键,并依该交叉点处之该光束干涉而变化,d)一架体,用以支撑该a)装置,e)该a)装置包含由该架体所承载之光束发射器,及f)该b)电路包含由该架体所承载之光束检测器。22.根据申请专利范围第16项之装置,其包含音响变化装置,系依使用者手指在该第二高度光束之干涉而反应。23.根据申请专利范围第16项之装置,其包含光线强度变化装置,系依使用者手指在该交叉点之光束干涉而反应。图示简单说明:第一图系一等体积图,说明装置之使用情形;第二图、第二图'、第二图''系分别为一种装置型式之一平面图、一截面正视图及一截面图,其发光元件与光检元件之水平位置烈做少许调整。此装置中,仅使用一枚灯泡做为发光元件之光源;第三图说明第二图所示装置之功能;第四图、第四图'、第四图''系分别为一种装置型式之一平面图、一截面正视图及一截面图,其中发光元件与光检元件之水平位置可略为调整。此装置中,各发光元件具有各自之光源:第四图A、第四图A'系横截面图;第五图、第五图'、第五图''系分别为另一种装置型式之一平面图、一截面正视图及一截面图,其中发光元件与光检元件之水平位置可略为调整。此装置中系使用二枚灯泡做为发光元件之光源;第五图A、第五图A'系横截面图;第六图、第六图'、第六图''系分别为另一种装置型式之一平面图、一截面正视图及一截面图,其中发光元件与光检元件之水平位置可略为调整。此装置中,仅以一枚灯泡做为发光元件之光源,光线利用光纤玻璃管而自光源传送至各发光元件;第六图A、第六图A'系横截面图;第七图、第七图'、第七图''系分别为另一种装置型式之一平面图、一截面正视图及一截面图,其中发光元件与光检元件之水平位置可略为调整。诸图式说明以一母线将装置接于一电脑,在此装置中,仅以一枚灯泡做为发光元件之光源,光线利用光纤玻璃管而自光源传送至各发光元件;第八图、第八图'、第八图''系分别为另一种装置型式之一平面图、一截面正视图及一截面图,其中发光元件与光检元件之水平位置无法略为调整。在此装置中,仅以一枚灯泡做为发光元作之光源;第八图A、第八图B以及第八图C、第八图D、第八图E系横截面图;第九图、第九图'、第九图''系分别为另一种装置型式之一平面图、一截面正视图及一截面图,其中发光元件与光检元件之水平位置无法做略为调整。此装置中,各发光元件具有各自之光源;第九图A、第九图B系横截面图;第十图、第十图'、第十图''系分别为另一种装置型式之一平面图、一截面正视图及一截面图,其中发光元件与光检元件之水平位置无法做略为调整。在此装置中,系以二枚灯泡做为发光元件之光源;第十一图、第十一图'、第十一图''系分别为另一种装置型式之一平面图、一截面正图及一截面图,其中发光元件与光检元件之水平位置无法做略为调整。在此装置中,仅以一枚灯泡做为发光元件之光源,光线利用光纤玻璃管而自光源传送至各发光元件;第十二图、第十二图'、第十二图''系分别为另一种装置型式之一平面图、一截面正视图及一截面图,其中发光元件与光检元件之水平位置无法做略为调整。诸图式说明以一母线将装置接至一电脑,在此装置中,仅以一枚灯泡做为发光元件之光源,光线利用光纤玻璃管而自光源传送至各发光元件;第十三图、第十三图'、第十三图''系分别为另一种装置型式之一平面图、一截面正视图及一截面图,其中发光元件与光检元件之水平位置无法做略为调整。在此装置中,各发光元件各自具有其光源,且各发光元件各具有其透镜。第十三图A、第十三图B、第十三图C系横截面图;第十四图、第十四图'、第十四图''系第二图所示可调整式发光元件之截面侧视图、正视图及截面图;第十五图、第十五图'系一可调整式光检元件之平面图及截面侧视图,用于第二图至7所示之「间距杆」长孔;第十六图、第十六图'系第二至七图所示可调整式光检元件之截面侧视图及截面图;第十七图系一种可弯摺以利收藏之装置型式平面图;第十七图A、第十七图B、第十七图C及第十七图A'、第十七图B'、第十七图C'系用于第十七图所示装置之变化枢接点平面图与截面图;第十八图系一平面图,揭示第十七图所示装置之弯摺状态;第十九图系一平面图,遻明一对装置系设于分置在一表面上之二块威克罗圈环式带或布料或薄片上;第二十图系一平面图,说明一对装置系设于结合在与放置在一表面上之二块威克罗圈环式带布或薄片上;第二一、第二一图'系在一线21'-21'上之平面图与截面图,说明本装置可设于一椅臂上做舒适使用;第二二图、第二二图'、第二二图''系分别为一种改良装置之一平面图、一截面正视图及一截面图,其中发光元件与光检元件可做垂直调整。第二三图系装置之操作情形示意图;及第二四图系一电路图。
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