发明名称 |
METHOD FOR MANUFACTURING FIELD OXIDE FILM OF SEMICONDUCTOR ELEMENT |
摘要 |
|
申请公布号 |
JPH10209268(A) |
申请公布日期 |
1998.08.07 |
申请号 |
JP19970360768 |
申请日期 |
1997.12.26 |
申请人 |
HYUNDAI ELECTRON IND CO LTD |
发明人 |
CHO SEIOKU |
分类号 |
H01L21/316;H01L21/306;H01L21/76;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/76 |
主分类号 |
H01L21/316 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|