| 主权项 |
1.一种制备有机铝氧产物之方法,其包含令具有硼酸官能度之有机硼化合物与三烃基铝化合物在实质上无水之有机液体中、温度系0℃至该有机液体之沸点下反应,其中三烃基铝化合物相对有机硼化合物酸官能度之莫耳比率为0.5:1至4:1。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中该具硼酸官能度之有机硼化合物系有机亚硼酸、有机硼酸、或有机二硼酸,其中有机基含有1至20个碳原子。3.根据申请专利范围第2项之方法,其中有机硼化合物为有机硼酸。4.根据申请专利范围第1项之方法,其中硼化合物之有机基为芳族。5.根据申请专利范围第4项之方法,其中有机硼化合物为苯基硼酸。6.根据申请专利范围第1项之方法,其中硼化合物之有机基为烷基。7.根据申请专利范围第6项之方法,其中烷基具有1至10个碳原子。8.根据申请专利范围第7项之方法,其中烷基具有1至4个碳原子。9.根据申请专利范围第8项之方法,其中烷基为甲基。10.根据申请专利范围第1项之方法,其中三烃基铝为三烷基铝化合物,其中每一烷基具有1至4个碳原子。11.根据申请专利范围第10项之方法,其中三烃基铝包含三甲基铝。12.根据申请专利范围第10项之方法,其中三烃基铝包含三乙基铝。13.根据申请专利范围第1项之方法,其中该莫耳比为至少0.5/1,但小于1/1。14.根据申请专利范围第1项之方法,其中该莫耳比为至少0.5/1。15.根据申请专利范围第14项之方法,其中制得具有衆多下式单元之固体产物:其中每一R代表该有机基。16.根据申请专利范围第1项之方法,其中三烃基铝与有机硼化合物之莫耳比为1/1至4/1之范围。17.根据申请专利范围第1项之方法,其中该莫耳比为2/1至4/1之范围内。18.根据申请专利范围第16项之方法,其中有机铝氧产物具有下式之重复单元:其中R为烃基且n为至少2。19.根据申请专利范围第18项之方法,其中R为甲基。20.根据申请专利范围第1项之方法,其中有机硼化合物与三烃基铝系在有微粒无机固体之存在下反应。21.一种烯烃聚合催化剂系统,其包含经申请专利范围第1-20项中任一项之方法所制得之有机铝氧产物,以及至少一种含过渡金属之烯烃聚合催化剂,其中有机铝氧产物中的铝相对过渡金属的原子比范围系1/1至5000/1。22.根据申请专利范围第21项之催化剂系统,其包含至少一种含过渡金属之金属错合物。23.根据申请专利范围第21项之催化剂系统,其进一步包含三甲基铝。24.一种聚合烯烃之方法,其包含于溶液、悬浮液或气相中,温度为0℃至150℃下,令烯系不饱和单体与申请专利范围第21项之催化剂系统接触。 |
