发明名称 液态光硬化配方,特别是用于立体石版印刷术
摘要 液态光硬化配方,特别是用于立体石版印刷术,其系为至少一含可自由基聚合的化合物,至少一适合聚合反应的光起始剂,该配方额外含一聚气烷撑-聚矽氧烷嵌块共聚物,其系选自以下化学式的共聚物:(I): R1-(OCcH2c)d-{[T]-(CcH2cO)d-1-(CcH2c)}g-OR1,CC和(Ⅲ): CC其中:R1 为氢原子或(C1-C8)烷基;R2 为甲基或苯基;〔T〕 为聚矽氧烷基〔PS〕,未端详细叙述于说明书;〔PS〕为
申请公布号 TW354795 申请公布日期 1999.03.21
申请号 TW083107379 申请日期 1994.08.12
申请人 汽巴特用化学品控股公司 发明人 马克斯.匈奇克
分类号 C08G77/42 主分类号 C08G77/42
代理机构 代理人 林镒珠 台北巿长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种液态光硬化配方,其包括总计0.1到10重量%之至少一光起始剂和0.5至50重量%之聚氧烷撑-聚矽氧烷嵌段共聚物,至100%余量为至少一含可自由基聚合基之化合物,其中该配方聚氧烷撑-聚矽氧烷嵌段共聚物系选自以下化学式的共聚物:和其中符号如以下所示:R1为选自氢和(C1-C8)烷基;c为1到8的数目,相当于聚氧烷撑基中的(CcH2cO)d中烷撑单元的平均碳原子数目;d为1到100的整数;g为1到4的整数;[T]为选自式T1到T12者:[PS]为下式的聚矽氧烷基R2为选自甲基和苯基;b为1到100的整数;[Alk]为3到10个碳原子的烷撑;[Alk1]为1到20个碳原子的烷撑;m为1到8,相当于聚氧烷撑基(CmH2mO)n中烷撑单元的平均碳原子数目;n为1到50的整数;[G]为式X为选自氧和硫的原子;[D]为至少含2个碳原子的二价有机基;e为1到100的整数,和f为1到50的整数。2.如申请专利范围第1项的配方,其中[D]选自2到8个碳原子的烷撑及含有不超过30个碳原子的二价基,后者含有至少6员碳环,其未被取代或含一或多个直链或支链的(C1-C4)烷基取代基。3.如申请专利范围第2项的配方,其中[D]选自2到8个碳原子的烷撑及含有不超过20个碳原子的二价基,后者含有至少6员碳环,其未被取代或含一或多个直链或支链的(C1-C4)烷基取代基。4.如申请专利范围第2项的配方,其中R1为选自氢和(C1-C4)烷基;R2为甲基;[Alk]为-(CH2)3-基;[Alk1]为2到10个碳原子的烷撑基;X为氧原子;D为选自下式的二价有机基c为2到4;d为5到50的整数;b为10到50的整数;m为2到4的整数;n为5到20的整数;e为1到50的整数,和f为1到25的整数。5.如申请专利范围第4项的配方,其中[Alk1]为含2至4个碳原子的烷撑基。6.如申请专利范围第4项的配方,其中R1为甲基;[Alk]和[Alk1]各为-(CH2)3-;c为2;d在式(I)或(II)的嵌段共聚物时为7到25的整数,在式(III)的嵌段共聚物时为2到20的整数;g为1;m为2,和n为7到20的整数。7.如申请专利范围第1项的配方,其中含自由基聚合基的化合物为含以下成分的混合物:(i)二官能单体或聚合丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯;(ii)三官能基或多官能基丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯;(iii)下式的不饱和单体其中R5为选自氢和甲基者,和R6为下式基其中R7为选自以下组群:氢糖基,环己基,2-苯氧基乙基,基,异冰片基,环氧丙基,二环戊基,吗乙基,二甲基胺基乙基和直链和支链(C1-C20)烷基,如果R5为氢原子,除了上述基之外,R6也可为选自以下组群:咯烷酮-2-基,咪唑基,唑基,基,苯基,(C5-C8)环烷基,基,2-原冰片基,啶基,N-己内醯胺基,甲醯胺基,乙醯胺基和甲苯基。8.如申请专利范围第7项的配方,其含至少一种下式化合物作为成分(i)其中p为0或1,t为0或1,或当p为0时,为1到3的整数,[Z]为-O-,-S-,-SO2-或-C(R10)(R11)-,R10和R11个自独立为选自氢,-CF3和甲基,R14当p为0时为氢或甲基,和R8当p为0时为氢和当p为1时为羟基,和R9为氢或甲基,以下式(VII)的三丙烯酸酯或三甲基丙烯酸酯作为成分(ii)R12-CH2-C(CH2-R13)3其中R12为甲基或下式基R15个自独立为氢或甲基,和R13为9.如申请专利范围第8项的配方,其包括至少二个(VI)化合物作成分(i),其中[Z]在二种化合物中为-C(CH3)2-基,和p为在其中一种化合物式中为0,另一种化合物为1及成分(iii)为1-乙烯基咯烷酮,苯氧基乙基丙烯酸酯,苯氧基乙基甲基丙烯酸酯或至少二个上述成分的混合物。10.一种聚氧烷撑-聚矽氧烷嵌段共聚物,其具有选自下式的化学式和其中符号如以下所示:R1为选自氢和(C1-C8)烷基;c为1到4的数目,相当于聚氧烷撑基中的(CcH2cO)d中烷撑单元的平均碳原子数目;d为7到25的整数;g为1;[T]为下式基:[PS]为下式的聚矽氧烷基R2为甲基;b为5到50的整数;[Alk]为3到10个碳原子的烷撑。
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