发明名称 光阻涂布装置
摘要 一种光阻涂布装置主要包含有一旋转基台,其具有一水平承座用以放置晶圆,及一垂直于该水平承座的中心轴,用以旋转该水平承座并抽气吸附该晶圆;以及一可转动式机械手臂,带动一输送光阻液的管路,该管路具有至少一喷嘴以喷出光阻液。本创作之特征在于:该至少一喷嘴具有一折角,使其末端呈一铅直状态,藉此经由该至少一喷嘴所喷出之光阻液可确实落于该晶圆的中心点,而于旋转扩散后形成一均匀光阻薄膜。
申请公布号 TW378785 申请公布日期 2000.01.01
申请号 TW085211104 申请日期 1996.07.19
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 何奇峰;李锡煌;白源吉
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种光阻涂布装置,其包括:一旋转基台,其具有一水平承座用以放置晶圆,及一垂直于该水平承座的中心轴,用以旋转该水平承座并抽气吸附该晶圆;以及一可转动式机械手臂,带动一输送光阻液的管路,该管路具有至少一喷嘴以喷出光阻液;其特征在于该至少一喷嘴具有一折角,使其末端呈一铅直状态,藉此经由该至少一喷嘴所喷出之光阻液可确实落于该晶圆的中心点,而于旋转扩散后形成一均匀光阻薄膜。2.如申请专利范围第1项所述的装置,其中该至少一喷嘴之材质是不锈钢。3.如申请专利范围第1项所述的装置,其中该至少一喷嘴喷出光阻液之一端更包含有一塑胶接头。图式简单说明:第一图A是习知一种光阻涂布装置部份正面图。第一图B是第一图A的部份放大图。第二图是根据本创作的一种光阻涂布装置正面图。
地址 新竹科学工业园区工业东三路三号