发明名称 Integrated circuit device and method of manufacturing the same
摘要 집적회로 소자는 활성 영역을 가지는 반도체 기판과, 원자량 16 이상의 칼코겐 원소로 도핑된 하부 유전막을 포함하는 인터페이스막과, 게이트 유전막과, 게이트 전극을 포함한다. 집적회로 소자를 제조하기 위하여, 반도체 기판 상에 총 두께 중 일부 두께 부분이 원자량 16 이상의 칼코겐 원소로 도핑된 인터페이스막을 형성한다. 인터페이스막 위에 게이트 유전막을 형성한다. 게이트 유전막 상에 게이트 전극을 형성한다.
申请公布号 KR20160125174(A) 申请公布日期 2016.10.31
申请号 KR20150056008 申请日期 2015.04.21
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 LEE, DONG SOO;LEE, HU YONG;CHUNG, WON KEUN;NA, HOON JOO;JEON, TAEK SOO;HYUN, SANG JIN
分类号 H01L29/78;H01L29/45 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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