| 主权项 |
1.一种用以至/自一处理区载入/卸除一基体的基体运送装置,其包含:一用以固持基体的臂;一用以驱动该臂使其诸如至/自该处理区载入/卸除该基体的臂驱动机构;一设于该臂上的第一吸附垫,用以吸附该基体;一设于该臂上靠近该第一吸附垫位置的第二吸附垫,用以吸附该基体;一设于该第一吸附垫及第二吸附垫之间的弹射构件,以便藉由弹射构件抵靠基体的下表面而控制将被第一及第二吸附垫中之一所吸附的基体的方位。2.如申请专利范围第1项所述之基体运送装置,其中该处理区为一用以清洗一基体的一清洗照像石板。3.如申请专利范围第1项所述之基体运送装置,其中该第一及第二吸附垫系由弹性可形变材料所制成,且设置于该臂的上表面,且吸附该基体的该第一及第二吸附垫中之一被弹性形变已使其高度变为较另一该吸附垫者为低。4.如申请专利范围第3项所述之基体运送装置,其中在弹性形变之前,该第一及第二吸附垫的高度为实质相同。5.如申请专利范围第3项所述之基体运送装置,其中该弹射构件的高度与第一及第二吸附垫的高度实质相同。6.如申请专利范围第1项所述之基体运送装置,其中多数对的该第一吸附垫及该第二吸附垫被设置为对该基体的中心线成对称之位置,且该第一及第二吸附垫之一被设于该基体的内侧,且该第一及第二垫的另一者被设于每一对中之该基体的外侧。7.一用以至/自一处理区载入/卸除一基体的基体运送装置,包含:一臂,其具有有一表面及另一表面,用以固持该基体;一用以驱动该臂使其诸如至/自该处理区载入/卸除该基体的臂驱动机构;一设于该臂的一表面上的第一吸附垫,用以吸附该基体;一设于该臂的另一表面上的用以吸附该基体的第二吸附垫;及一用以藉由翻转该臂而自该第一及第二吸附垫中选择性地切换一模式以吸附该基体。8.如申请专利范围第7项所述之基体运送装置,其中该切换构件包括一用以旋转该臂的促动器。9.一用以藉由基体运送装置而达成基体运送的基体运送方法,该基体运送装置包含,一用以将基体固持于其上的臂,设于该臂上用以选择性吸附该基体的第一及第二吸附垫,一设于该臂的该第一及第二吸附垫间的一弹射构件;该方法包含以下步骤:在藉由第一吸附垫的吸附以及弹射构件抵靠未清洗基体的下表面而固持未清洗基体的同时将一未清洗基体载入至一处理区,其中未清洗基体被第一吸附垫所吸附;及在藉由第二吸附垫的吸附及弹射构件抵靠未清洗基体的下表面而固持已清洗基体的同时将一已清洗基体自处理区卸除,其中未清洗基体被第二吸附垫所吸附。10.一用以藉由一基体运送装置而达成基体运送的基体运送方法,该基体运送装置包含一用以固持该基体于其上的臂,设于该臂的一表面上的第一吸附垫,设于该臂的另一表面上的第二吸附垫,及一用以藉由翻转该臂而在用以吸附该基体的第一及第二吸附垫中选择性切换一模式的切换机构;该方法包含以下步骤:在藉由第一吸附垫的吸附而固持未清洗基体的同时将一未清洗运送载入至处理区中;将臂翻转以使第二吸附垫位于该臂的上侧;及在藉由第二吸附垫的吸附而固持已清洗基体的同时将一已清洗基体自处理区卸除。图式简单说明:第一图为清洗玻璃的一平面图;第二图为一依照本发明的一实施例的一基体运送装置的一透视图;第三图为适用于运送一诸如半导体晶圆的基体的臂的一透视图;第四图为适用于运送一诸如一LCD玻璃基体的基体的臂的一透视图;第五图为显示一实施例的平面图,在该结构中第一及第二吸附垫被设置在臂上,使这些吸附垫的上表面彼此等高度;第六图为取自第五图中之A-A线的截面图;第七图为用以显示有关第五图所示的实施例之其中清洗前基体被运送的情况的解释图;第八图为用以显示有关第五图所示的实施例之其中清洗后基体被运送的情况的解释图;第九图为显示一具有一被反转之臂的结构之基体运送装置的平面图;及第十图A,第十图B,第十图C为显示第九图中所示的基体运送装置的运作的解释图。 |
