主权项 |
1.一种生产供适用于光资料通讯技术的光纤所用之雏形模的方法,其藉由提供一以石英玻璃所构成并且具有沿着半径方向之不同掺杂区域的基板管,藉由采用一由合成石英玻璃所构成之芯玻璃,并藉由以一套管包围该基板管,其特征在于使用一种基板管,系藉由将一多孔之管型SiO2空管玻璃化而形成,其中该基板管被提供有一芯玻璃层,其系藉由将SiO2空管之第一半径区域在玻璃化之前被添加了一第一掺杂剂,其可增加石英玻璃的折射系数。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该多孔SiO2空管之形成系藉由含矽化合物的加热水解以及沉积SiO2粒子于一基板上,其中第一掺杂剂被添加于沉积过程中。3.如申请专利范围第1项或第2项之方法,其中该芯玻璃系藉由内部沉积法而被引入该基板管中。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该多孔SiO2空管之至少一第二半径部分在沉积之后与玻璃化之前被掺杂以一第二掺杂剂,其可改变石英玻璃的折射系数。5.如申请专利范围第4项之方法,其中为了该第二半径区域之掺杂,该SiO2空管被加热并且同时暴露于一种包含第二掺杂剂之气体中。6.如申请专利范围第4项之方法,其中氟系作为该第二掺杂剂。7.如申请专利范围第1项之方法,其中一种含锗的化学化合物系作为该第一掺杂剂。8.如申请专利范围第1项之方法,其中该芯玻璃层系被调整,使其折射系数介于1.459与1.490之间。9.一种生产供适用于光资料通讯技术的光纤所用之雏形模的基板管,其系由石英玻璃所构成,其中该雏形模包括有一由一覆罩玻璃所包围之芯玻璃,其中该区至少有一部分是依基板管的形式而被提供,而该基板管具有沿着半径方向之不同掺杂,其特征在于该基板管包括有一具有至少为1.459之折射系数的芯玻璃层。10.如申请专利范围第9项之基板管,其中该芯玻璃层系被提供邻近于该雏形模之芯玻璃。11.如申请专利范围第9项或第10项之基板管,其中该基板管包括有一由掺杂氟的石英玻璃所构成的包壳层。12.如申请专利范围第9项之基板管,其中该芯玻璃层包含有锗。13.如申请专利范围第12项之基板管,其中该芯玻璃层额外地包含有氟。14.如申请专利范围第9项之基板管,其中该芯玻璃层系具有一折射系数,其介于1.4593与1.490之间。15.如申请专利范围第9项之基板管,其中该芯玻璃层之氢氧离子的含量之最高値为重量之1ppm(百万分之一)。16.如申请专利范围第9项之基板管,其中邻近该芯玻璃层之处提供有一扩散阻挡层。17.一种用来生产供光纤所用之雏形模的方法,其包括:形成一管状之多孔SiO2空管,其包括具有半径厚度之第一与第二层;该第一层具有一第一剂量的第一掺杂剂,该第一掺杂剂系可提高所掺杂之石英玻璃之折射系数;该第二层实质上不具有该第一掺杂剂,或者具有一第二剂量之该第一掺杂剂,该第二剂量系不同于该第一剂量者;以及玻璃化该空管以形成一石英玻璃基板管,使得该基板管具有一芯玻璃层以及另一玻璃层,该两玻璃层之一者系包含该第一掺杂剂,而该两玻璃层之另一者则实质上不具有该第一掺杂剂,或者具有一不同浓度之该第一掺杂剂。18.如申请专利范围第17项之方法,其更包括以一由石英玻璃所构成之套管包围该基板管。19.如申请专利范围第17项之方法,其中该多孔SiO2空管之形成系藉由含矽化合物的加热水解以及沉积SiO2粒子于一基板上。20.如申请专利范围第19项之方法,其中该第一掺杂剂被添加于沉积过程中。21.如申请专利范围第17项之方法,其中该第一层于该基板管中形成一朝内半径方向之表面。22.如申请专利范围第17项之方法,其更包括在玻璃化之前,乾化该SiO2空管于一包含有氯或氟的气体中,且其操作温度大约为1300℃或略低。23.如申请专利范围第17项之方法,其更包括以内部沉积法将一芯玻璃系引入该基板管中。24.如申请专利范围第17项之方法,其中该多孔SiO2空管之第二层在沉积之后与玻璃化之前被掺杂以一第二掺杂剂,其可改变石英玻璃的折射系数。25.如申请专利范围第24项之方法,其中该第二层之掺杂系藉由同时加热该SiO2空管并且暴露该SiO2空管于一包含该第二掺杂剂的气体中。26.如申请专利范围第24项之方法,其中该第二掺杂剂为氟。27.如申请专利范围第25项之方法,其中该第二掺杂剂为氟。28.如申请专利范围第17项之方法,其中该第一掺杂剂包含锗。29.如申请专利范围第20项之方法,其中该第一掺杂剂包含锗。30.如申请专利范围第17项之方法,其中该芯玻璃层具有至少为1.459之折射系数。31.如申请专利范围第17项之方法,其中该芯玻璃层系具有一折射系数,其介于1.4593与1.490之间。32.一种适用于生产光纤之光纤雏形模,其包括:一玻璃芯;以及一包围该玻璃芯之玻璃包壳;其中该包壳包括有一基板管,其具有一径向之内部玻璃层与一径向之外部玻璃层;该两玻璃层之一者系包含一第一浓度之掺杂剂,而该两玻璃层之另一者则实质上不具有该掺杂剂,或者具有一第二浓度之该掺杂剂;以及该内部玻璃层具有至少为1.459之折射系数。33.如申请专利范围第32项之雏形模,其中该玻璃芯系被提供邻近于该雏形模之内部玻璃层。34.如申请专利范围第32项之雏形模,其中该基板管包括有一由掺杂氟的石英玻璃所构成的覆罩玻璃层。35.如申请专利范围第32项之雏形模,其中该掺杂剂包含锗。36.如申请专利范围第35项之雏形模,其中该内部玻璃层额外地包含有氟。37.如申请专利范围第32项之雏形模,其中该内部玻璃层具有一折射系数,其介于1.4593与1.490之间。38.如申请专利范围第32项之雏形模,其中该内部玻璃层之氢氧离子的含量之最高値为重量之1ppm(百万分之一)。39.如申请专利范围第32项之雏形模,其中该基板管更包括有一邻近该内部玻璃层之扩散阻挡层。图式简单说明:图1a系为根据本发明之方法所生产的雏形模所制造的单模光纤之一第一折射系数分布图;图1b系为根据本发明之方法中,供生产光纤所用的基板管之一具体实施例,其具有如图1a所示之折射系数分布;图2a系为根据本发明之方法所生产的雏形模所制造的单模光纤之一第二折射系数分布图;图2b系为根据本发明之方法中,供生产光纤所用的基板管之另一具体实施例,其具有如图2a所示之折射系数分布;图3a系为根据本发明之方法所生产的雏形模所制造的单模光纤之一第三折射系数分布图;以及图3b系为根据本发明之方法中,供生产光纤所用的基板管之另一具体实施例,其具有如图3a所示之折射系数分布。 |