| 主权项 |
1.一种组成物,其系含有A)以乙烯基环己烷为基础之聚合物,其具有对应于下式之重复结构单元其中R3与R4各自独立,代表氢或C1-C6烷基或R3与R4一起代表伸烷基,R1.R2与R5各自独立,代表氢或C1-C6烷基,以及B)0.001至2重量%之(以所使用之聚合物及基准)含有下列化合物之安定剂系统:5至95重量份(以成分B为基准)之对应于式(I)之内酯化合物;其中R1.R2.R3和R4各自独立,代表氢、C1-C6烷基、或为5或6员环烷基,5至95重量份(以成分B为基准)之对应于式(II)之位阻酚化合物:其中R5和R6各自独立,代表氢或C1-C6烷基、5或6员环,n代表从1至4的整数,且R独立代表氢、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、5或6员环,5至95重量份(以成分B为基准)之对应于式(III)之亚磷酸酯化合物:其中R7和R8各自独立,代表氢、C1-C6烷基、亦为5或6员环或为支链烷基,以及x和y各自独立,代表0.1.2.3.4.5,以及n代表1或2,其中若n=1,则碳原子的自由价键结合至氢、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基或5.6环。2.根据申请专利范围第1项之组成物,其系含有0.005至1重量%安定剂系统B。3.根据申请专利范围第1项之组成物,其系含有下列化合物:4.根据申请专利范围第1项之组成物,其中安定剂系统系包括5至60重量份(以成分B为基准)对应式I之化合物10至60重量份(以成分B为基准)对应式II之化合物10至60重量份(以成分B为基准)对应式III之化合物。5.根据申请专利范围第1项之组成物,其系含有以乙烯基环己烷为基础之聚合物或共聚物,其中共聚用单体系选自烯烃类、丙烯酸或甲基丙烯酸之烷基酯类、未饱和环脂烃类、环上经烷化之苯乙烯、-甲基苯乙烯、二乙烯基苯、乙烯酯类、乙烯酸类、乙烯醚类、乙酸乙烯酯、丙烯类、顺丁烯二酸酐。6.根据申请专利范围第1项之组成物,其尚具主要间规构形之VCH聚合物。7.根据申请专利范围第1项之组成物,其系含有至少一种选自加工助剂、成核剂、脱模剂、染料、色素、安定剂以及抗静电剂之添加剂。8.根据申请专利范围第1项之组成物,其系用于制作模制塑品及薄膜。9.根据申请专利范围第1项之组成物,其系用于制作光学资料载体。10.根据申请专利范围第1至9项之组成物,其中安定剂系统系用于制备具有改良热安定性之以乙烯基环己烷为基础之聚合物。 |
