| 主权项 |
1.一种外差式光学频谱分析装置,包含:一波长可调雷射源,用于产生一参考光束;一待测光束输入机构,用于输入一待测光束;一拍频产生机构,用于将该参考光束与待测光束叠加成一拍频;一侦测机构,用于侦测该拍频产生机构之输出;及一处理单元,依据该参考光束和拍频之波长而得到该待测光束之频谱讯号。2.如申请专利范围第1项之外差式光学频谱分析装置,其中该波长可调雷射源系由外部之一调制或扫描讯号控制而产生该参考光束。3.如申请专利范围第1项之外差式光学频谱分析装置,其中该侦测机构包含一低通滤波器及振幅侦测器。4.如申请专利范围第1项之外差式光学频谱分析装置,其中该侦测机构包含一带通滤波器及振幅侦测器。5.如申请专利范围第1项之外差式光学频谱分析装置,其中该处理单元为一个人电脑。6.如申请专利范围第1项之外差式光学频谱分析装置,其中该处理单元可同时记录该侦测机构之输出及该波长可调雷射源之波长。7.一种外差式光学频谱分析方法,用于量测一待测光束之频谱讯号,包含下列步骤:(a)扫描一波长可调雷射源而依序产生一参考光束;(b)叠加该待测光束与该参考光束而产生一拍频;及(c)依据该拍频及参考光束之波长而得到该待测光束之频谱讯号。8.如申请专利范围第7项之外差式光学频谱分析方法,其中在步骤(a),该波长可调雷射源系由一调制或扫描讯号控制而产生该参考光束。图式简单说明:图1系本发明之外差式光学频谱分析装置;及图2系本发明之外差式光学频谱分析方法之流程图。 |
