| 主权项 |
1.一种正型光阻剂组成物,其包含:(A)含有以下述一般式(I)所示重复单位与下述一般式(II)所示重复单位且可藉由酸之作用增大对硷显像液之溶解度的树脂,(B)藉由活性光线或放射线产生酸之化合物,一般式(I)(其中,R1~R3系各表示独立的烷基、卤化烷基、卤素原子、烷氧基、三烷基矽烷基、或三烷基矽烷氧基;n系表示0或1)(其中,M系表示含有键结的2个碳原子(C-C)、为形成可具取代基之脂环式构造的原子团;R11.R12系各表示独立的氢原子、氰基、卤素原子或可具取代基之烷基)。2.如申请专利范围第1项之正型光阻剂组成物,其中(A)之树脂系另含有至少一种下述一般式(IIIa)或(IIIb)所示重复单位的重复单位,其中于一般式(IIIa)中,Z系表示氧原子、或-N-R3a;R3a系表示氢原子、羟基、具直链或支链之烷基或-O-SO2-R4a;R4a系表示烷基、三氟甲基;于一般式(IIIb),X1与X2系各表示独立的选自氧原子、硫原子、-NH-、-NHSO2-之基;A1与A2系各表示独立的单键或2价连结基;R1a与R2a系表示独立的氢原子、氰基、羟基、-COOH、-COOR5a、-CO-NH-R6a、可具取代基之烷基、烷氧基或环状烃基(于形成环之键结中可具有酯基或羰基);R5a系表示可具取代基之烷基、烷氧基或环状烃基(于形成环之键结中可具有酯基或羰基);R6a系表示可具取代基之烷基。 |
