光酸产生剂化合物,化学增幅正型抗蚀剂材料及图案形成方法

摘要

本发明系含有对于300nm以下之高能量线为高感度、高解像度，线边缘粗糙度小，且热安定性、保存安定性优异之酸产生剂之高解像性光阻材料，使用该光阻材料，及使用此光阻材料之图案之形成方法。含有基体树脂、酸产生剂及溶剂所成之化学增幅正型光阻材料，其特征系该酸产生剂为产生含氟基之烷基醯亚胺酸之化学增幅正型光阻材料，及包括以下步骤之图案之形成方法：将该光阻材料涂布于基板上之步骤；加热处理后，经由光罩以波长300nm以下之高能量线曝光之步骤；加热处理后，使用显影液显影之步骤。