发明名称 形成(PTFE)m(PI)n膜的方法及其复合物
摘要 本发明系一形成(PTFE)m(PI)n膜的方法及其复合物,主要是在低压环境中,提供热、电子、光、放射线、或离子为动能,解离PTFE及PA,其中藉由真空氢离子抽出使CONH键结形成c=N亚胺键,而PTFE因其低Tg点及不耐受电浆之碰撞,而形成蒸气云飞向基板,与上述原料复合形成未固化之(PTFE)m(PI)n膜,在固体相物质基板之表面上,使不易成膜加工之(PTFE)m(PI)n,能轻易的在基板上形成膜,此未固化之膜可再经热、磁、光之能量供给而固化,己固化之膜具有优秀的物理,化学特性,可提供基板耐高温、耐高频、耐候性等机能性功能。
申请公布号 TW200409794 申请公布日期 2004.06.16
申请号 TW091136070 申请日期 2002.12.13
申请人 林添财 发明人 林添财
分类号 C08J5/18 主分类号 C08J5/18
代理机构 代理人
主权项
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