回填半导体晶圆处理室之装置及方法

摘要

提供各种回填注射器用于半导体晶圆处理装置，此提供上流气体，并具有提高之均匀分布之气体于处理室之周边中。并提供适当最佳化之回填轨道，此避免洗涤气体之过度注射速度。回填注射器及／或其他型式之注射器以及最佳化之注射轨道大为减少处理周期时间，并提高处理均匀性。