| 发明名称 | 一种等离子体刻蚀装置和干法刻蚀设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种等离子体刻蚀装置和干法刻蚀设备，用以通过所述等离子刻蚀装置实现对被刻蚀基板的均匀刻蚀，避免被刻蚀基板由于刻蚀不均匀而造成的不良，提高产品的质量。所述等离子体刻蚀装置，包括反应腔室、位于反应腔室内的相对而置的下部电极和上部电极，所述装置还包括：固定在所述下部电极底部的转轴、与所述转轴相连的电机，其中，所述电机位于所述反应腔室的外部，用于控制所述转轴带动所述下部电极进行转动。 | ||
| 申请公布号 | CN205692795U | 申请公布日期 | 2016.11.16 |
| 申请号 | CN201620672052.8 | 申请日期 | 2016.06.28 |
| 申请人 | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 宫奎;白明基;段献学;李贺飞 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种等离子体刻蚀装置，包括反应腔室、位于反应腔室内的相对而置的下部电极和上部电极，其特征在于，所述装置还包括：固定在所述下部电极底部的转轴、与所述转轴相连的电机，其中，所述电机位于所述反应腔室的外部，用于控制所述转轴带动所述下部电极进行转动。 | ||
| 地址 | 230012 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号 | ||