测量沈积于基板上之薄膜特性的方法及系统

摘要

本发明系有关提供一测量配置于基板上之薄膜特性之方法及系统。此方法系包括识别薄膜上之复数个处理区；测量一次组的复数个处理区之特性，界定经测量的特性；决定一经测量特性之一变异；及以一经测量特性与次组之其余处理区相关联的经测量特性之比较作为基础使得变异之一成因产生关联性。该系统系进行上述方法。