| 主权项 |
1.一种制备聚合物组合物的方法,此方法包括下列 步骤: 提供一种分散体,其包括根据下式之化合物: 其中各X系分别选自由NR2及苯基所组成之群,其中 各R系分别选自由氢、烷氧基烷基、羧基及羟甲基 所组成之群; 添加每升之分散体自大约0.001至1莫耳的一种酸至 该分散体中;及 加热该分散体到至少大约70℃之温度历至少大约2 小时,以产生聚合物组合物。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中酸加成步骤包 括添加对-甲苯磺酸至分散体中。 3.如申请专利范围第1项之方法,其中酸加成步骤和 加热之步骤实质上系同时进行。 4.如申请专利范围第1项之方法,其中加热步骤系在 酸加成步骤后予以进行。 5.如申请专利范围第1项之方法,其中自加热步骤所 产生之聚合物组合物包含具有至少大约1,000道尔 顿(Daltons)之平均分子量。 6.如申请专利范围第1项之方法,其中提供步骤的化 合物包含许多的该化合物及起始数量的甲氧基羟 甲基基团及其中在开始加热步骤后大约12小时,存 在于所产生之聚合物组合物中之甲氧基羟甲基基 团的数量,当与起始数量比较时减少至少大约20%, 而甲氧基羟甲基基团的数量系由滴定步骤予以测 定。 7.如申请专利范围第1项之方法,其中该化合物系选 自由苯并胍胺和三聚氰胺所组成之群。 8.如申请专利范围第7项之方法,其中该化合物是苯 并胍胺,并将加热步骤进行历少于大约7小时的一 段时间。 9.如申请专利范围第1项之方法,其另外包括在酸加 成步骤前或期间将发色团与分散体混合的步骤。 10.如申请专利范围第9项之方法,其中发色团系选 自由2,4-己二烯酸和3-羟基-2-酸所组成之群。 11.如申请专利范围第9项之方法,其中由加热步骤 产生之聚合物组合物包含一聚合物,且该发色固系 化学结合至该聚合物上。 12.如申请专利范围第1项之方法,其中由加热步骤 产生之聚合物组合物包含一聚合物,其包括该化合 物之再现单体,该再现单体系由下列各基团中选出 之连接基团予以连接在一起:-CH2-、-CH2-O-CH2-及其 混合物。 13.如申请专利范围第1项之方法,其中由加热步骤 产生之聚合物组合物包含一聚合物,其包括该化合 物之再现单体,该再现单体系由结合至各化合物之 氮原子上的连接基团予以连接在一起。 14.一种制备组合物的方法,该方法包括以下步骤: 形成一种包括以下成份之分散体在一分散剂中: 一种根据下式之化合物 其中各X系分别选自由NR2及苯基所组成之群,其中 各R系分别选自由氢、烷氧基烷基、羧基及羟甲基 所组成之群;及 具有交联部位在其中之聚合物,该聚合物于组合物 中系以约2.0至20重量%之量存在,而以组合物中之固 体总量为100重量%为基。 15.如申请专利范围第14项之方法,其中形成步骤包 括添加一种酸至分散体中。 16.如申请专利范围第14项之方法,其中该酸包含对- 甲苯磺酸。 17.如申请专利范围第14项之方法,其中分散剂是选 自由丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯和乳酸 乙酯所组成之群。 18.一种抗反射组合物,其包括一种聚合物及一种化 学键结至该聚合物之发色团在其中,该聚合物包含 下式之再现单体 其中各X系分别选自向NR2及苯基所组成之群,其中 各R系分别选自由氢、烷氧基烷基、羧基及羟甲基 所组成之群, 该聚合物具有至少大约1,000道尔顿之平均分子量 。 19.如申请专利范围第18项之组合物,该再现单体系 由选自由-CH2-、-CH2-O-CH2-及其混合物所组成之群的 连接基团连接在一起。 20.如申请专利范围第18项之组合物,该再现单体系 由结合至各再现单体之氮原子上的连接基团予以 连接在一起。 21.如申请专利范围第18项之组合物,其中该再现单 体系选自由苯并胍胺和三聚氰胺所组成之群。 22.如申请专利范围第18项之组合物,该组合物另外 包含具有至少大约100,000道尔顿的平均分子量之聚 合物。 23.如申请专利范围第22项之组合物,其中聚合物系 选自由纤维素醋酸酯氢酸盐、纤维素醋酸丁酸 酯、羟丙基纤维素、乙基纤维素、甲基丙烯酸羟 丙酯、聚丙烯酸和聚酯所组成之群。 24.如申请专利范围第18项之组合物,其中该发色团 系选自由2,4-己二烯酸和3-羟基-2-酸所组成之群 。 25.如申请专利范围第18项之组合物,其中该组合物 包含一种溶剂,并将聚合物实质上溶入该溶剂中。 26.如申请专利范围第25项之组合物,其中溶剂系选 自由丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯、乳酸 乙酯和环己酮所组成之群。 27.一种抗反射组合物,其包括一种包含下式之再现 单体的聚合物于其中: 其中各X系分别选自由NR2及苯基所组成之群,其中 各R系分别选自由氢、烷氧基烷基、羧基及羟甲基 所组成之群, 该聚合物具有至少大约1,000道尔顿之平均分子量 。 28.一种具有一个表面之基体及形成在该基体表面 上之抗反射层的联合体,该抗反射层包括包含下式 之再现单体之聚合物在其中 其中各X系分别选自由NR2及苯基所组成之群,其中 各R系分别选自由氢、烷氧基烷基、羧基及羟甲基 所组成之群, 该聚合物具有至少大约1,000道尔顿之平均分子量 。 29.如申请专利范围第28项之联合体,该再现单体系 选自由-CH2-、-CH2-O-CH2-及其混合物所组成之群之连 接基团予以连接在一起。 30.如申请专利范围第28项之联合体,该再现单体系 由结合至各再现单体之氮原子上的连接基团予以 连接在一起。 31.如申请专利范围第28项之联合体,其中该再现单 体系选自由苯并胍胺和三聚氰胺所组成之群。 32.如申请专利范围第28项之联合体,该层另外包含 具有至少大约100,000道尔顿的平均分子量之聚合物 。 33.如申请专利范围第32项之联合体,其中该聚合物 系选自由纤维素醋酸酯氢酸盐、纤维素醋酸丁 酸酯、羟丙基纤维素、乙基纤维素、甲基丙烯酸 羟丙酯、聚丙烯酸和聚酯所组成之群。 34.如申请专利范围第28项之联合体,该层另外包含 一种发色团。 35.如申请专利范围第28项之联合体,其中当使用CF4 作为蚀刻剂时,该层具有至少大约1.5的对于阻体之 蚀刻选择性。 36.如申请专利范围第28项之联合体,其中该层具有 自大约500至2,000的厚度。 37.如申请专利范围第28项之联合体,其中使该层接 受具有经预定波长之光,及该层在该经预定波长下 具有至少大约0.2的k値。 38.一种具有一个表面之基体及形成在该基体表面 上之抗反射层的联合体,该抗反射层包括一种聚合 物及一种化学键结至该聚合物之发色团,该聚合物 包含下式之再现单体 其中各X系分别选自由NR2及苯基所组成之群,其中 各R系分别选自由氢、烷氧基烷基、羧基及羟甲基 所组成之群, 该聚合物具有至少大约1,000道尔顿之平均分子量 。 39.如申请专利范围第38项之联合体,其中该发色团 系选自由2,4-己二烯酸和3-羟基-2-酸所组成之群 。 40.一种制备聚合物组合物及以聚合物组合物涂覆 一表面之方法,该方法包括以下步骤: 提供一种分散体,其包括根据下式之化合物: 其中各X系分别选自由NR2及苯基所组成之群,其中 各R系分别选自由氢、烷氧基烷基、羧基及羟甲基 所组成之群; 添加每升之分散体自大约0.001至1莫耳的一种酸至 该分散体中; 加热该分散体到至少大约70℃之温度历至少大约2 小时,以产生聚合物组合物; 将所产生之聚合物组合物与一种溶剂混合以便形 成抗反射涂层;及 施加该抗反射涂层至基体的表面上而形成一层之 抗反射涂层在基体表面上。 41.如申请专利范围第40项之方法,其中该抗反射涂 层在曝置于具波长约190至260nm之光下具有至少大 约0.2的k値。 42.如申请专利范围第40项之方法,其中当使用CF4作 为蚀刻剂时,抗反射涂层具有至少大约1.5的对于阻 体之蚀刻选择性。 43.如申请专利范围第40项之方法,其中施加步骤包 含旋转涂布抗反射层至基体表面上。 44.如申请专利范围第40项之方法,其中溶剂系选自 由丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯、乳酸乙 酯和环己酮所组成之群。 45.如申请专利范围第40项之方法,其另外包括在至 少大约160℃之温度下的施加步骤后之烘焙抗反射 涂层之步骤。 46.如申请专利范围第45项之方法,其中经烘焙之抗 反射涂层具有自大约500至2,000的厚度。 47.如申请专利范围第40项之方法,其另外包括在酸 加成和加热步骤后,将具有至少大约100,000道尔顿 之平均分子量的聚合物与分散体混合的步骤。 48.如申请专利范围第47项之方法,其中聚合物系选 自由纤维素醋酸酯氢酸盐、纤维素醋酸丁酸酯 、羟丙基纤维素、乙基纤维素、甲基丙烯酸羟丙 酯、聚丙烯酸和聚酯所组成之群。 49.如申请专利范围第47项之方法,其另外包括下列 步骤: 将所产生之聚合物组合物与一种溶剂混合,以形成 抗反射涂层; 施加该抗反射涂层至基体的表面上,而形成一层之 抗反射涂层在基体表面上;及 在施加步骤后,在至少大约160℃之温度下烘焙该抗 反射涂层,该经烘焙之抗反射涂层具有至少大约60% 的顺应性百分数。 图式简单说明: 图1是一幅图表描绘作为反应时间之函数的经聚合 之Cymel303的分子量分布; 图2是一幅图表描绘作为反应时间之函数的具有经 连合至其上之3-羟基-2-酸之经聚合物Cymel303的 分子量分布; 图3是一幅图表描绘随着时间羟甲基和甲氧基羟甲 基基团之改变。 |
