Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage sowie Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem solchen Beleuchtungssystem

摘要

Ein Beleuchtungssystem (ILL) für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes mit dem Licht einer primären Lichtquelle umfasst eine Pupillenformungseinheit (PFU) zum Empfang von Licht der primären Lichtquelle (LS) und zur Erzeugung einer zweidimensionalen Intensitätsverteilung in einer Pupillenformungsfläche (PUP) des Beleuchtungssystems, ein Übertragungssystem (TRANS) zur Übertragung der Intensitätsverteilung in ein Zwischen-Beleuchtungsfeld (IF), das in einer Zwischenfeldebene (IFP) liegt; und ein optisches Abbildungssystem (IMS) zur Abbildung des in der Zwischenfeldebene angeordneten Zwischen-Beleuchtungsfeldes in das Beleuchtungsfeld, das in einer zur Zwischenfeldebene optisch konjugierten Austrittsebene (EX) des Beleuchtungssystems liegt. Das Beleuchtungssystem ist dadurch gekennzeichnet, dass das optische Abbildungssystem (TRANS) ein katadioptrisches Abbildungssystem mit einer Vielzahl von Linsen und mindestens einem Konkavspiegel (CM) ist.