| 主权项 |
1﹒制造下式化合物之方法其中R为苯基、或经包 括 低烷基、低烷氧基及氢之组中分别选出之一至二 个取代基所取代之苯基;R1为苯基或经包括低 烷基、低烷氧基、卤素、三氟甲基及硝基之组中 分别选出之一至二个取代基所取代之苯基;而R 2为由包括低烷基和低芳香烷基之组中所选出者 ,此方法包括使下式之化合物(其中R与R2定 义如前),于一非质子溶剂中,在氯化氢接受体 存在下,与下式R1─S─CI之化合物反应( 其中R1定义如上)。 2﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中所述 非质子溶剂为苯、甲苯、四氢喃、环己烷、甲 基环己烷、己烷、辛烷、二氧陆圜、或乙醚。 3﹒根据上述请求专利部份第2项之方法,其中所述 非质子溶剂为苯或甲苯。 4﹒根据上述请求专利部份第3项之方法,其中所述 氯化氢接受体为胺。 5﹒根据上述请求专利部份第4项之方法,其中所述 胺为第三胺。 6﹒根据上述请求专利部份第5项之方法,其中反应 之温度为由约0至约100℃。 7﹒根据上述请求专利部份第6项之方法,其中所述 化合物为N─[(4─甲基─苯基)硫基]─N ─[三苯氧基膦基]─甲基甘胺酸甲酯。 8﹒根据上述请求专利部份第6项之方法,其中所述 化合物为N─(4─甲基苯基硫基)─N─[( 双─4─氯─3─甲基苯氧基)膦基甲基]─甘 胺酸乙酯。 |
