Elektronenstrahl-Lithografieprozess mit mehreren Säulen

摘要

Die vorliegende Offenbarung stellt ein Verfahren eines Elektronenstrahl(E-Strahl)-Lithografieprozesses bereit. Das Verfahren umfasst das Laden einer Trägerschicht in ein Elektronenstrahl(E-Strahl)-System, so dass eine erste Untermenge von Feldern, dir auf der Trägerschicht definiert ist, auf der Trägerschicht entlang einer ersten Richtung angeordnet ist. Das Verfahren umfasst auch das Positionieren mehrerer E-Strahlsäulen mit einer ersten Untermenge von E-Strahlsäulen, die entlang der ersten Richtung angeordnet ist. Die E-Strahlsäulen der ersten Untermenge von E-Strahlsäulen sind auf verschiedene Felder der ersten Untermenge von Feldern gerichtet. Das Verfahren umfasst auch das Durchführen eines ersten Belichtungsprozesses in einem Abtastmodus, so dass die mehreren E-Strahlsäulen die Trägerschicht entlang der ersten Richtung abtasten.