| 主权项 |
1.一雷射机制对准装置,包括一放射感知器,用以接受反射自焊接处之放射,以提供指示反射之放射之位准之一输出信号;及一对正侦测装置,被连结以接受放射信号,用以在制机处进行机制时量度输出信号增加率,以及对所量得之增加率与一最低可接受率相比,以决定机制处是否已雷射路径精确对正。2.如请求专利部份第1.项之装置,其中包括工作件对正装置。3.如请求专利部份第2.项之装置,其中工作件包括多数机制处。该设备并包括一移动控制装置,用以控制该对正装置之移动以渐次移动机制处,使各机制处与该雷射路径对正。4.如请求专利部份第1.,2.,或3.项之装置,其中该对正侦侧装置包括一取样器,用以在短于一机制处之机制时间之规则时隔,对该放射感知器之输出信号进行取样,及为了储存经取样之输出信号。5.如请求专利部份第4.项之装置,其中该对正侦测装置包括一比较器,用以将经取样之输出信号与一随各电射脉冲而增大之最低可接受位准相比;及包括一决定电路。用以决定各经取样之输出信号是否超过了最低可接受位准,以提供机制处是否与雷射路径精确对正之一指示。6.如前面任一项请求专利部份之雷射机制对准装置,其中包括一放射导引器,用以将一选定频率之放射导至该雷射源,该取样器以同一频率对该放射装置之输出施行取样。 |
