| 发明名称 |
PATTERN FORMING METHOD BY ELECTRON-BEAM EXPOSURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS6317526(A) |
申请公布日期 |
1988.01.25 |
| 申请号 |
JP19860162281 |
申请日期 |
1986.07.10 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
TSUJI HITOSHI;KATO CHIHARU;HASHIMOTO HIDETSUNA;HIROYA MASUMI |
| 分类号 |
G03F7/26;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30 |
主分类号 |
G03F7/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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