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发明名称 Method for producing a high density plasma intended for in the process of coating a magnetron sputtering
摘要
申请公布号 PL223207(B1) 申请公布日期 2016.10.31
申请号 PL20120400018 申请日期 2012.07.18
申请人 POLITECHNIKA ŁÓDZKA 发明人 RYLSKI ADAM;WENDLER BOGDAN;PROGALSKIJ IVAN;PAWLAK WOJCIECH;NOLBRZAK PIOTR;MAKÓWKA MARCIN;WŁODARCZYK-KOWALSKA KATARZYNA
分类号 H05H1/02;C23C14/35 主分类号 H05H1/02
代理机构 代理人
主权项
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