| 主权项 |
1﹒一种藉电介质涂覆一基体之装置,其具有一连接至一电极之电流源,此电极连接至一受电触之一目标,且其电触粒与积存于基体之导入物质形成一组合物,并与散布于目标处且其场线由目标表面出现于磁极区域中之环状磁场形成粗合物,其特征为,提供有一交流电电流源(30)其输出电压系重叠于直流电电流源(10)之直流电电压、以及供应至电极(5)之交流电电流源(30)之电力输出对应于由直流电电流源(10)供给至电极(5)之输出之5%至25%者。2﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为交流电电流源(30)系一高频电流源者。3﹒如申请专利范围第1或2项所述之装置,其特征为高频输出为直流电电流输出之10%者。4﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为直流电电流源(10)系经二感应器(11,12)连至电极(5)者。5﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为交流电电流源(30)系经电容器(33,34)连至电极(5)者。6﹒如申请专利范围第4项所述之装置,其特征为一为地面位能之电容器(29)其位于直流电电流源(10)及第一感应器(11)之间者。7﹒如申请专利范围第4项所述之装置,其特征为一为地面位能之电容器(32)其位于第二感应器(11)与第二感应器(12)之间者。8﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为一第一容器(25)中有一具有一开口之第二容器(24),其界定一横膜(26),并具有在目标(3)对面之欲涂覆之基体且其穿过第二容器(24)之此开口,以及一或多种气体导入第一及第二容器(25,24)之间的中空间者。9﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为交流电电流源(30)供给一为13﹒56MHz之交流电电压者。10﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为目标(3)包含有铝料且积存于基体上之层包含有Al2O3者。11﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为目标(3)包含有掺入性,亦即传导性之矽以及积存于基体上之层包含有SiO2者。12﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为目标(3)包含铝料以及积存于基体上之层包含AlN者。13﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为目标(3)包含有掺入性,亦即传导性之矽以及积存于基体上之层包含有Si3N4者。14﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为操作直流电电流源(10),须视目标材料之种类而定,并视电流、电压或输出电力而调节者。15﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为当使用一系Al、Si或Sn之目标时,直流电电流源(10)系视电压而调节并选择性操作者。16﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为当在一氩气/氧气之环境中电触一为Al、Si、Sn、ln/Sn之目标(3),直流电电流源(10)系视电压而调节并操作者。17﹒如申请专利范围第1项所述之装置,其特征为当一系Al、Si之目标(3)在一氩气/氧气之环境中受电触时,直流电电流源(10)系视电压而调节并操作者。图示简单说明图1示根据本发明之排置之基本表示图;图2为在一已知直流电电流磁子电触排中并在一710-3毫巴(mbar)之压力下作为电触输出中阴极电压与电触率之函数之阴极电流的图形表示;图3为在一氩气7l0-3毫巴之压力及一恒定氧气(O2)6.7SCCN/分钟之流量及一铝料目标之条件下,作为直流电电流阴极电压函敝之阴极电流及氧气部份压力之图形表示;图4为在一氩气7l0-3亳巴之压力及一恒定氧气6.7SCCM/分钟之流量及具有140V振幅之相叠高频电压及一铝料目标之条件下,作为直流电电流阴极电压之函数之阴极电流及氧气部份压力之图形表示;图5为与一直流电电流阴极电压相重叠之一交流电电压之图形表示;图6为在一纯氩气之环境中,作为阴极直流电电压及直流电电压与相叠之直流电电压组合之函数之阴极电流之图形表示 |
