发明名称 SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET
摘要 본 발명은 스퍼터링 중의 아킹을 억제하는 동시에, 수명이 긴 스퍼터링 타겟을 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명의 스퍼터링 타겟은, 표면에서의 유기물질의 단위면적당 존재 비율이 15.8% 이하인 타겟 부재와, 타겟 부재에 접합재를 통해 접합된 기재를 갖는다. 또한, 유기물질의 존재 비율은 규소를 포함할 수 있다. 또한, 타겟 부재 및 상기 기재는 원통형일 수 있다.
申请公布号 KR20160127329(A) 申请公布日期 2016.11.03
申请号 KR20160135593 申请日期 2016.10.19
申请人 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION 发明人 TATENO SATORU
分类号 C23C14/34;B24B7/20;C22C1/04;C23C14/14 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
地址