发明名称 偏光元件、偏光板及其制造方法
摘要 本发明为一不需进行延伸操作也可以简单作成复杂模型或曲状物品或大面积物品的含有光活性分子之层及与其邻接的含有二色性分子之层所构成的偏光元件或偏光板,及一种以直接偏光照射基板上的光活性分子层后,再于其上设置二色性分子层为特征的偏光元件或偏光板的制造方法。
申请公布号 TW243499 申请公布日期 1995.03.21
申请号 TW083108526 申请日期 1994.09.15
申请人 化药股份有限公司 发明人 户田顺治;市村国宏;石月纪男
分类号 G02B5/00 主分类号 G02B5/00
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼;林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种偏光元件或偏光板,其包含由具有光活性分子层及邻接该层之含有二色性分子之层所构成。2.如申请专利范围第1项之偏光元件或偏光板,其中,光活性分子层系设置于基板上,而含有二色性分子之层其上亦设有保护层。3.如申请专利范围第1项或第2项之偏光元件或偏光板,其中,光活性分子系由非芳香族性C=C,非芳香族性C=N,非芳香族性N=N中所选出之至少一具有双键结合的分子。4.如申请专利范围第1项或第2项之偏光元件或偏光板,其中,二色性分子为固体状态。5.如申请专利范围第1项或第2项之偏光元件或偏光板,其中,二色性分子为具有亲水性取代基的化合物。6.如申请专利范围第5项之偏光元件或偏光板,其中,亲水性取代基为磺酸基,氨基或羟基。7.如申请专利范围第2项之偏光元件或偏光板,其中,基板为平面状或曲面状。8.一种偏光元件或偏光板的制造方法,其系将其上方具有光活性分子层的基板进行直线偏光照射后,于该光活性分子层上设置含有二色性分子之层为其特征。9.如申请专利范围第8项之偏光元件或偏光板的制造方法,其中,基板上具光活性分子之层系以电晕放电处理或紫外线照射处理为其特征。10.一种具层次表示的偏光元件或偏光板,其包含由具有光活性分子层及邻接该层之含有二色性分子之层所构成。11.一种具层次表示的偏光元件或偏光板的制造方法,其系将其上方具有光活性分子层的基板以经由具浓淡层次的掩板进行直线偏光照射后,于该光活性分子层上设置含有二色性分子之层为其特征。12.一种多轴偏光元件或偏光板,其包含由具有光活性分子层及邻接该层之含有二色性分子之层所构成。13.一种多轴偏光元件或偏光板的制造方法,其系将其上方具有光活性分子层的基板以不同偏光轴的二个以上直线偏光进行照射后,于该光活性分子层上设置含有二色性分子之层为其特征。14.一种立体偏光元件或偏光板,其包含由具有光活性分子层邻接该层之含有二色性分子之层所构成。第1图为设置光活性分子层的装置略图第2图为可见光偏光的照射装
地址 日本