| 主权项 |
1. 一种制造滤色器之方法,包牯下列步骤: (a) 在一只透明基板上的透明导电层上形成阳式光 敏性涂 膜; (b) 在该阳式光敏性涂膜上形成有两种不同照光量 的第一 区域; (c) 将该阳式光敏性涂膜第一区域之至少一个经过 照光之 部份显像,以露以(lay-open)该透明导电层,再于其上 电 沈积一种有色涂料(colored coating)而形成着色层( colored layer); (d) 在剩下的阳式光敏性涂膜上形成有两种不同照 光量的 第二区域; (e) 将该阳式光敏性涂膜第二区域之至少一个经过 照光之 部份显像,以露出该透明导电层,再于其上电沈积 一种有 色涂料而形成着色层; (f) 把步骤(c),(e)中剩余未显像的阳式光敏性涂膜 去除 掉; (g) 在该透明基板(步骤(f)中的阳式光敏性涂膜即 是由此 基板去除)上形成光敏性涂膜,此光敏性涂膜系选 自由阳 式光敏性涂膜与阴式光敏性涂膜所组成之群组; (h) 在由步骤(g)所形成的光敏性涂膜上形成有至少 三种 不同照光量的第三区域;以及 (i) 将第三区域的光敏性涂膜显像以露出该透明导 电层, 然后于其上电沈积一种有色涂料而形成着色层,当 该光敏 性涂膜为阳式光敏性涂膜时则显像与电沈积的操 作过程系 以照光量渐减的顺序重覆进行,而当该光敏性涂膜 为阴式 光敏性涂膜时,则显像与电沈积的操作过程系以照 光量渐 增的顺序重覆进行的,而藉以产生不同的着色层。 2. 如申请专利范围第1项之方法,其中步骤(b)中有 两种 不同照光量的第一区域包括照光部份与未照光部 份。3. 如申请专利范围第1项之方法,其中在步骤(c )形成一 遮光层。4. 如申请专利范围第1项之方法,其中在 步骤(f)之剩余 阳式光敏性涂膜系以具有高溶解力(dissolution capability)的显像溶液去除的。5. 如申请专利范围 第1项之方法,其中在步骤(f)里的剩 余阳式光敏性涂膜系藉由曝光然后用显像溶液显 像而去除 的。6. 如申请专利范围第1项之方法,其中在步骤(h )中该光 敏性涂膜系透过一个有至少三种不同透光度之图 案的罩层 曝光一次。7. 如申请专利范围第1项之方法,其中 在步骤(h)中该光 敏性涂膜系透过一个有两种不同透光度之特定图 案的罩层 曝光,且该罩层系至少移位一次使该光敏性涂膜于 不同的 照光量下再曝光一次。8. 如申请专利范围第1项之 方法,其中在步骤(h)中该光 敏性涂膜系透过一个有两种不同透光度之特定图 案的罩层 曝光,且该光敏性涂膜系再透过至少一个有不同于 该特定 图案之图案的其他罩层曝光以改变照光量。9. 如 申请专利范围第1项之方法,其中在步骤(i)中将第 三区域的光敏性涂膜显像以露出透明导电层的一 部份,并 令该透明导电层露出的部份保持而不予电沈积着 色层。10. 如申请专利范围第1项之方法,其中在步 骤(c), (e) 及(i)之至少一步骤中在该滤色器的一外框里形成 透明层 以代替该着色层。图示简单说明: 第1图系一种具有两种不同透光度之罩层的平面图 。 第2图系另一种具有两种不同透光度之罩罩的平面 图。 第3图系一种具有三种不同透光度之罩层的平面图 。 第4图系一种具有两种不同透光度而用于移位( displacement)之罩层的平面图。 第5图系又一种具有两种不同透光度之罩层的平面 图。 第6图系再一种具有两种不同透光度之罩层的平面 图。 |
