| 主权项 |
1. 一种下式之辐射敏感嵌段共聚物, (AB)@ssp(B)@ssqX 其中,A为表观分子量介于5,000至125,000范围之聚苯 乙 烯, B为表观分子量介于15,000至250,000范围之聚丁二烯, X为多价偶合剂之残基, p之数目平均値介于1.5至20之范围,q之数目平均値 于0至 10之范围而p与q之和至少为4,该嵌段共聚物之平均 结合 苯乙烯含量为7至35%重量比且其总表观分子量介于 50,000 至1,500,000之范围, 其特征在于聚丁二烯嵌段中之乙烯基含量介于35 至70%之 范围。2. 根据申请专利范围第1项之辐射敏感嵌段 共聚物,其特 征为B嵌段之表观分子量在25,000至80,000之范围,而A 嵌 段之表观分子量在7,000至50,000之范围。3. 根据申 请专利范围第1项之辐射敏感嵌段共聚物,其中 X系四价偶合剂之残基,p与q两者之平均数値均在2.5 至1. 5之范围内,而p与q値之和为4。4. 根据申请专利范 围第3项之辐射敏感嵌段共聚物,其中 p与q两者之平均数値均在2.1至1.9之内。5. 根据申 请专利范围第3项之辐射敏感嵌段共聚物,其特 征为其表观分子量在200,000至300,000之范围内。6. 根据申请专利范围第3项之辐射敏感嵌段共聚物, 其特 征为聚(丁二烯)嵌段中之乙烯基含量在45至70%之范 围。7. 根据申请专利范围第1项之辐射敏感嵌段共 聚物,其特 征为p之平均数値在3至10之范围,其中q之平均数値 在0至 10之范围,p与q値之和在6至20之范围,且其中p/(p+q)之 比为0.375或以上。8. 一种制备申请专利范围第3项 之辐射敏感嵌段共聚物之 方法,此方法包含: (a)在活性聚(单乙烯基芳族)锂化合物A-Li,其中A代 表聚 合苯乙烯嵌段,及在修饰剂之存在下,将优势丁二 烯聚合 以形成嵌段共聚物AB-Li,其中B嵌段包含35至70%之1.2 聚 合丁二烯: (b)在有机锂引发剂RLi(其中R为烷基)及在修饰剂之 存在 下,将优势丁二烯聚合以形成B-Li嵌段,此嵌段包含 35至 70%之1.2聚合丁二烯分子;而引发剂R-Li与化合物A-Li 间 之莫耳比u在0.90至1.10之范围; (c)将(a)与(b)项所提聚合作用所得之活性聚合物嵌 段A-B -Li与B-Li混合物与四官能性偶合剂X偶合。9. 根据 申请专利范围第8项之方法,其特征为u介于0.95 至1.05之范围。10. 根据申请专利范围第8项之方法, 其特征为所使用之 偶合剂为SiCl@ss4.SnCl@ss4或DEAP或其混合物。11. 一种 辐射可熟化粘着剂组合物,其包含一或多种如 申请专利范围第1项之嵌段共聚物,以及包含下列 成份之 习用组份: 每一百重量份0至500重量份(phr)之一或多种增粘树 脂,0 至500phr之增塑剂及油, 0.01至5.0phr之抗氧化剂,及 0至200phr之聚(乙烯芳族)嵌段可相容树脂。12. 一种 辐射可熟化粘着剂组合物,该粘着剂组合物系 UV辐射可熟化者且除一或多种申请专利范围第1项 之嵌段 共聚物外,尚包含,以每100重量份之嵌段共聚物为 基准 ,0.5至5重量份之至少一种选自下列之光引发剂:2,2 二 甲氧基-2-苯基乙醯苯、苯醯苯、丙醯苯、环丙基 苯基酮 、乙醯苯;1,3,5-三乙醯基苯、苯醛、吨、 、 - 基苯基酮、- 醛、-乙醯 、 2.3-戊二酮、苯偶醯、芴酮、芘、苯并 酮、 及以 吗 基与烃硫基取代之芳基酮。13. 根据申请专利范围 第11项之UV辐射可熟化粘着剂组合 物,其中所述习用组份之量为50至200phr。14.一种压 感可熟化胶带或标签,其包含可挠背材及涂覆 在该背材一主要表面上之一层申请专利范围第11 或12项之 |
