发明名称 操作SRAM MOS电晶体记忆晶格之方法
摘要 记忆晶格含有具有回授之两个反相器(MN5,MP3;MN6, MP4)所组成之6-电晶体式记忆晶格,每一反相器都经由选择电晶体(MN1,MN2)而连接至位元线(BL,BLQ),选择电晶体(MN1,MN2)由字线(WL,WLS)来驱动。当写入资讯至记忆晶格时,两个选择电晶体都会导通。当读出晶格之内容时,只有第一选择电晶体(MN1)导通,另一选择电晶体(MN2)保持关闭(off)状态。以此方式,当进行读出程序时只有一条位元线(BL)上之电荷会改变。
申请公布号 TW334567 申请公布日期 1998.06.21
申请号 TW085115696 申请日期 1996.12.19
申请人 西门斯股份有限公司 发明人 侏根德瑞歇尔;裘格伯特梭尔德
分类号 G11C11/404 主分类号 G11C11/404
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种操作SRAM MOS电晶体记忆晶格(SZ)之方法,其特征为包括:-由具有回授之反相器对(MN5,MP3:MN6,MP4)所组成之记忆元件(SPE),-第一选择电晶体(MN1),其连结至第一字线(WL)mbox且将第一反相器(MN5,MP3)之连接节点(A)连接至第一位元线(BL),-第二选择电晶体(MN2),其连接至第二字线(WL2)且将第二反相器(MN6,MP4)之连接节点(B)连接至第二位元线(BLQ)。当写入资讯至记忆元件(SPE)时,两个选择电晶体(MN1,MN2)都会导通,当读出记忆元件(SPE)之内容时,第一选择电晶体(MN1)导通,第二选择电晶体(MN2)则保持关闭状态。2.如申请专利范围第1项之方法,其中记忆晶格之供应电压VDD所设定之范围是|Vthmax|<VDD<|Vthp|+|Vthn||Vthp|和|Vthn|是电晶体之门限电压(threshold voltage)的大小,|Vthmax|是此二値中之较大者。图示简单说明:第一,二图显示习知之记忆晶格。第三图显示读出过程期间之电压关系图。第四图显示写入过程期间之电压关系图。第五图显示一种记忆体型式。第六图显示列解码器。
地址 德国