摘要 |
<p>본 발명은 다원계 증착을 위해 증발표적(target)의 표면 오염 방지용 나누개 및 기판 오염 방지용 가리개를 가진 증착조에 관한 것으로, 그 목적은 물리적 기상 증착장비의 작업공정 수행중에 나타나는 단점을 간단히 해결하여 박막의 품질과 연구 효율을 높이고, 동일한 직경의 증착조 내에 더 많은 수의 음극체를 설치하여 효율적으로 사용할 수 있도록 하는데 있다. 본 발명의 구성은 전리체(plasma) 증착장치에 있어서, 여러 개의 구멍이 뚫려 있고, 일정 깊이를 갖는 홈을 내어 기판(43)이 고정될 수 있도록 한 기판 지지대(44); 증착시킬 기판만을 노출시켜 원하는 물질만을 증착시킬 수 있도록 한 구동장치(42)에 의해 회전하는 가리개(10); 동작하지 않는 음극체(46)의 표적표면이 오염되는 것을 방지하도록 나누어 격리시키는 구멍(21)이 표적표면과 수직선상에 뚫려 있는 나누개(20); 표적표면과 기판 사이의 거리 조절을 위해 상하로 움직여 조정하는 다수의 음극체(46); 그리고 진공 상태인 증착조(45)의 내부 상황을 확인하고, 증착 작업시 기판(43)의 위치를 확인하는 창문(47)으로 구성된다.</p> |