发明名称 | 低压化学气相沈积反应炉管之门板装置 | ||
摘要 | 一种低压化学气相沈积反应炉管之门板装置,包括:一门板以及一O型环。门板上具有一凹槽,凹槽系一截面呈倒角型之环形沟槽,用以放置O型环。凹槽具有倒角型的截面设计,可防止O型环因受热而自门板脱落。 | ||
申请公布号 | TW378664 | 申请公布日期 | 2000.01.01 |
申请号 | TW085213514 | 申请日期 | 1996.09.02 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 黄怡和 |
分类号 | C23C16/00 | 主分类号 | C23C16/00 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一 | |
主权项 | 1.一种低压化学气相沈积反应炉管之门板装置,其中,该反应炉管包括一反应室与置放一晶舟的一晶舟支撑架;该门板装置包括:一门板30,且具有一凹槽32,该凹槽32系一截面呈倒角型之环形沟槽,该门板30用以开关该反应室;以及一O型环34,放置于该凹槽32中,用以使该门板30与该反应室密合。2.如申请专利范围第1项所述之门板装置,其中该门板30更包括一似圆形的孔洞,透过该似圆形的孔洞使该门板30与该晶舟支撑架紧密藕接在一起。3.如申请专利范围第1项所述之门板装置,其中该晶舟支撑架系延伸入该反应室中,上面放置该晶舟并在该反应室内进行反应。图式简单说明:第一图绘示的是习知一种低压化学气相沈积反应炉管之示意图;第二图绘示的是第一图中假想线范围II内门板放大后之详细构造剖面图;以及第三图绘示的是本创作之一较佳实施例,一种低压化学气相沈积反应器炉管之门板装置剖面图。 | ||
地址 | 新竹科学工业园区工业东三路三号 |