| 主权项 |
1.一种自动清除阻陷装置,装设于抽取一反应物的一泵浦与一局部清除器间,其中该反应物具有一沈积物,该自动清除阻陷装置包括:一第一分支管,连接到该泵浦,用以接收该反应物;一第二分支管,连接到该泵浦,用以接收该反应物;一运转阻陷器,装设在该第一分支管上,用以将该沈积物分离;一备载阻陷器,装设在该第二分支管上,用以将该沈积物分离;一第一自动清除器,装设在该运转阻陷器上,用以产生一清除作用,将该运转阻陷器内部之该沈积物去除;以及一第二自动清除器,装设在该备载阻陷器上,用以产生该清除用,将该备载阻陷器内部之该沈积物去除;其中,当该运转阻陷器运转时,该第二分支管关闭,用以对该备载阻陷器进行该清除作用;当该备载阻陷器运转时,该第一分支管关闭,用以对该运转阻陷器进行该清除作用。2.如申请专利范围第1项所述之自动清除阻陷装置,其中该反应物系由蚀刻所产生一气体。3.如申请专利范围第1项所述之自动清除阻陷装置,其中该第一自动清除器与该第二清除器之该清除作用,系输入一清除液进行冲洗后,再将该沈积物与该清除液排出。4.如申请专利范围第1项所述之自动清除阻陷装置,其中该沈积物系为一水溶性物质。5.如申请专利范围第4项所述之自动清除阻陷装置,其中该水溶性质系为三氧化铝。6.如申请专利范围第4项所述之自动清除阻陷装置,其中该清除作用,系输入一水以进行冲洗后,将该沈积物与该水排出。7.如申请专利范围第1项所述之自动清除阻陷装置,其中该运转阻陷器与该备载阻陷器之切换,系由人为设定。8.如申请专利范围第1项所述之自动清除阻陷装置,其中该第一分支管,接近该运转阻陷器之输入端与输出端,分别装设有一输入开关阀与一输出开关阀,用以配合该第一自动清除器之该清洗作用。9.如申请专利范围第1项所述之自动清除阻陷装置,其中该第二分支管,接近该备载阻陷器之输入端与输出端,分别装设有一输入开关阀与一输出开关阀,用以配合该第二自动清除器之该清洗作用。图式简单说明:第一图绘示习知阻陷装置图形;以及第二图绘示依照本发明一较佳实施例的自动清除阻陷装置图形。 |
