发明名称 具有含氟化合物之废气之处理方法及装置
摘要 本发明系揭示一种处理具有含氟化合物之废气之改良装置,包括分离来自具有含氟化合物之废气中固体所用之固体处理设备1,将H2及/或H2O或H2及/或H2O与O2作为分解辅助气体添加至离开固体处理设备之废气所用之添加设备,以600至900℃加热之γ-氧化铝2充填之热分解设备3,该设备系使添加分解辅助气体之废气热分解,移除来自热分解废气之酸性气体所用之酸性气体处理设备5,以及依序连接这些设备所用之通道。该装置较佳者尚包含可调节其内压之空气喷射器7。
申请公布号 TW510819 申请公布日期 2002.11.21
申请号 TW089124231 申请日期 2000.11.16
申请人 荏原制作所股份有限公司 发明人 森洋一;京谷敬史;筱原丰司
分类号 B01D53/70 主分类号 B01D53/70
代理机构 代理人 洪武雄 台北市博爱路八十号六楼;陈昭诚 台北市博爱路八十号六楼
主权项 1.一种处理具有含氟化合物之废气之方法,该方法包括下列步骤:从废气中分离固体,添加H2及/或H2O或H2及/或H2O与O2作为分解辅助气体,于500℃至1000℃下与-氧化铝接触进废气之热分解,以及从分解后废气移除酸性气体。2.如申请专利范围第1项之方法,其中用于热分解步骤之温度系介于600℃至900℃。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该具有含氟化合物之废气含有全氟碳(perfluorocarbons)与氟化烃,以及氧化性气体、酸性气体及CO。4.如申请专利范围第3项之方法,其中该具有含氟化合物之废气为源于半导体加工制程产生之废气。5.一种处理具有含氟化合物之废气之装置,该装置包括分离来自具有含氟化合物之废气内固体所用之固体处理设备,将H2及/或H2O;或H2及/或H2O与O2作为分解辅助气体添加至离开固体处理设备之废气所用之添加设备,以500至1000℃加热之-氧化铝充填且使添加分解辅助气体之废气热分解所用之热分解设备,去除来自热分解废气之酸性气体所用之酸性气体处理设备,以及依序连接这些设备所用之通道。6.如申请专利范围第5项之装置,其中该固体处理设备或该酸性气体处理设备为水洗机。7.如申请专利范围第5或6项之装置,该装置不仅具有空气喷射器,可调节废气通过之装置中压力,亦具有控制经处理气体排放密度之FT-IR分析仪。图式简单说明:第1图系表示本发明废气处理装置之流程图。
地址 日本
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