| 主权项 |
1.一种透明电磁辐射遮蔽片,包含:一透明基底材料,一具有金属之网目状导电材料,及一树脂层,其接触该网目状导电材料的至少一表面,该树脂层包括一种热熔黏合树脂,其具有80重量%至少一种以下通式(I)、(II)及(III)所代表的重复单元:-(-CH2-CH(R1)-)- (I)(其中R1代表氢原子或甲基)-(-CH2-C(R2)(COO-R3)-)- (II)(其中R2代表氢原子或甲基,且R3代表一具有1至4个碳原子的烷基)(其中R4代表一个氢原子或一具有1至4个碳原子的烷基)。2.如申请专利范围第1项之透明电磁辐射遮蔽片,其中该热熔黏合树脂具有70-120℃的软化温度。3.如申请专利范围第1项之透明电磁辐射遮蔽片,其中该网目状导电材料具有一含铜箔之金属。4.如申请专利范围第2项之透明电磁辐射遮蔽片,其中该网目状导电材料具有一含铜箔之金属。5.如申请专利范围第1项之透明电磁辐射遮蔽片,其中该具有金属的网目状导电材料包含一形成在该透明基底材料上的铜图案。6.如申请专利范围第2项之透明电磁辐射遮蔽片,其中该具有金属的网目状导电材料包含一形成在该透明基底材料上的铜图案。7.如申请专利范围第1项之透明电磁辐射遮蔽片,其更包含至少一薄膜选自于一形成抗反射层之薄膜以及一形成功能层之薄膜,此功能层薄膜可透过经选定波长之光,此等薄膜被层合到该透明基底材料的至少一个表面上。8.如申请专利范围第2项之透明电磁辐射遮蔽片,其更包含至少一薄膜选自于一形成抗反射层之薄膜以及一形成功能层之薄膜,此功能层薄膜可透过经选定波长之光,此等薄膜被层合到该透明基底材料的至少一个表面上。9.如申请专利范围第3项之透明电磁辐射遮蔽片,其更包含至少一薄膜选自于一形成抗反射层之薄膜以及一形成功能层之薄膜,此功能层薄膜可透过经选定波长之光,此等薄膜被层合到该透明基底材料的至少一个表面上。10.如申请专利范围第4项之透明电磁辐射遮蔽片,其更包含至少一薄膜选自于一形成抗反射层之薄膜以及一形成功能层之薄膜,此功能层薄膜可透过经选定波长之光,此等薄膜被层合到该透明基底材料的至少一个表面上。11.一种透明电磁辐射遮蔽片的制造方法,包含以下数个步骤:形成一具有金属之网状导电材料于一透明基底材料上;层合一热熔黏合薄膜,其具有80重量%至少一种以下通式(I)、(II)及(III)所代表的重复单元:-(-CH2-CH(R1)-)- (I)(其中R1代表氢原子或甲基)-(-CH2-C(R2)(COO-R3)-)- (II)(其中R2代表氢原子或甲基,其中R3代表代表一具有1至4个碳原子的烷基)(其中R4代表氢原子或一具有1至4个碳原子的烷基)于该网目状导电材料;以及实施加热压制以便熔融热熔黏合薄膜并整体层合各组成材料。12.如申请专利范围第11项之透明电磁辐射遮蔽片之制造方法,其更包含提供至少一个层合片,其具有以下结构,此结构系以加热压制整体层合各组成材料而形成:(B)/(C)/透明基底材料/热熔黏合薄膜/(A)/(B)(B)/(C)/透明基底材料/(A)/热熔黏合薄膜/(B)(B)/透明基底材料/(C)/热熔黏合薄膜/(A)/(B)(B)/透明基底材料/(C)/(A)/热熔黏合薄膜/(B)(B)/透明基底材料/热熔黏合薄膜/(A)/(C)/(B)或是(B)/透明基底材料/(A)/热熔黏合薄膜/(C)/(B),其中(A)是一具有金属之网目状导电材料,(B)是形成抗反射抗反射层之薄膜,(C)是形成功能层之薄膜,可选择性地透过某一波长之光,以及提供一黏着层插在各层合薄片之至少一层之间。13.一种显示装置,其具有一透明电磁辐射遮蔽片,此透明电磁辐射遮蔽片配置在该显示装置之一个前方表面,该电磁辐射遮蔽片包含:一透明基底材料,一具有金属之网目状导电材料,及一树脂层,其接触该网目状导电材料之至少一表面,该树脂层包括一种热熔黏合树脂,其具有80重量%至少一种以下通式(I)、(II)及(III)所代表的重复单元:-(-CH2-CH(R1)-)- (I)(其中R1代表氢原子或甲基)-(-CH2-C(R2)(COO-R3)-)- (II)(其中R2代表氢原子或甲基,其中R3代表一具有1至4个碳原子的烷基)(其中R4代表一个氢原子或一具有1至4个碳原子的烷基)。14.如申请专利范围第13项之显示装置,其中该热熔黏合树脂具有70-120℃的软化温度。15.如申请专利范围第13项之显示装置,其中该网目状导电材料具有一含铜箔之金属。16.如申请专利范围第13项之显示装置,其中该具有金属的网目状导电材料具有包含一形成在该透明基底材料上的铜图案。17.如申请专利范围第13项之显示装置,其更包含至少一薄膜选自于一形成抗反射层之薄膜以及一形成功能层之薄膜,此功能层薄膜可透过经选定波长之光,此等薄膜被层合到该透明基底材料的至少一个表面上。图式简单说明:第1图为依本发明透明电磁辐射遮蔽片之一实施例的剖视图;第2图为依本发明透明电磁辐射遮蔽片之另一实施例的剖视图;第3图为依本发明透明电磁辐射遮蔽片设计供使用在一电浆显示器之一实施例的剖视图;第4图说明依本发明透明电磁辐射遮蔽片之制造方法;第5图说明在实例1中所用的透明电磁辐射遮蔽片的制造方法;第6图说明在实例2中所用的透明电磁辐射遮蔽片的制造方法;第7图说明在比较例1中所用的透明电磁辐射遮蔽片的制造方法;以及第8图说明在比较例2中所用的透明电磁辐射遮蔽片的制造方法。 |
