| 发明名称 | 基体处理装置与方法 | ||
| 摘要 | 一共用溶剂蒸气供应源41和一共用处理气体供应源42把臭氧气体和蒸汽供应到数个处理容器30A,30B。在该等处理容器内的压力系藉着调整分别被置放于排气线80A,80B上之可变节流阀50A,50B的开启来被调节。 | ||
| 申请公布号 | TW200304052 | 申请公布日期 | 2003.09.16 |
| 申请号 | TW092104954 | 申请日期 | 2003.03.07 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 长野泰博;伊藤规宏;佐竹圭吾;饭野正 |
| 分类号 | G03F7/26 | 主分类号 | G03F7/26 |
| 代理机构 | 代理人 | 恽轶群;陈文郎 | |
| 主权项 | |||
| 地址 | 日本 | ||