多重聚合物及相关制备与使用方法

摘要

本发明系提供一种供使用在微影蚀刻光阻组合物(lithographicphotoresist)之聚合物掺合物(polymerblend)，特别适用在化学放大光阻(chemicalamplificationphotoresist)之部分。在较佳之实施例中，该聚合物掺合物系实质上对深紫外光区之电磁波透明，即波长小于250nm之电磁波，包含157nm、193nm与248nm，且改善了敏感度与解析度。本发明亦提供制备该聚合物掺合物及包含有该聚合物掺合物之微影蚀刻光阻组合物之方法。