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发明名称
用于垂直电晶体之非对称内间隔物
摘要
本发明揭示一种DRAM阵列,该DRAM阵列具有使用垂直电晶体之DRAM单元,该DRAM阵列在连接字线和电晶体间藉由使用一非对称结构,来增加电力可靠性并降低位元线电容,藉此在该字线和该电晶体电极间可容许使用一较宽连接,并可在对该字线定图案时,将该字线作为蚀刻终止来保护该电晶体闸极。
申请公布号
TW200406882
申请公布日期
2004.05.01
申请号
TW092117299
申请日期
2003.06.25
申请人
万国商业机器公司
发明人
杰克A 曼德曼;拉曼泉卓 迪瓦卡卢尼;杨海宁
分类号
H01L21/8234
主分类号
H01L21/8234
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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