发明名称 用于垂直电晶体之非对称内间隔物
摘要 本发明揭示一种DRAM阵列,该DRAM阵列具有使用垂直电晶体之DRAM单元,该DRAM阵列在连接字线和电晶体间藉由使用一非对称结构,来增加电力可靠性并降低位元线电容,藉此在该字线和该电晶体电极间可容许使用一较宽连接,并可在对该字线定图案时,将该字线作为蚀刻终止来保护该电晶体闸极。
申请公布号 TW200406882 申请公布日期 2004.05.01
申请号 TW092117299 申请日期 2003.06.25
申请人 万国商业机器公司 发明人 杰克A 曼德曼;拉曼泉卓 迪瓦卡卢尼;杨海宁
分类号 H01L21/8234 主分类号 H01L21/8234
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国