发明名称 | 多晶矽薄膜的制造方法 | ||
摘要 | 本发明系利用一般多晶矽层形成时表面突起具有不同高度的现象,利用部分高度较高的突起产生晶种,使用于接下来的结晶化步骤中,因此能够使新形成的多晶矽薄膜具有大小均匀且颗粒较大的晶粒,并具有数量与密度较少的突起,进而具有较佳的表面平坦度。 | ||
申请公布号 | TW200428660 | 申请公布日期 | 2004.12.16 |
申请号 | TW092115200 | 申请日期 | 2003.06.05 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 张茂益 |
分类号 | H01L29/786 | 主分类号 | H01L29/786 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路一号 |