发明名称 曝光装置
摘要 本发明系提供一种能够将空间光调变元件之像正确地投影于成像面的曝光装置。四分割检测器26系以位于曝光区域之一角的四个画素481、482、483、484(曝光影像之画素)分别对应于四分割检测器26的四个二极体261、262、263、264的方式配置,当DMD10和微镜面阵列18之间发生相对位置偏差的情形时,在四分割检测器26之输出信号P1、P2、P3、P4中产生差分,DMD10之微镜面(画素部)所反射之光束和对应微镜面之间的偏差(光束的位置偏差)便能够被检测出,并基于被检测出的偏差量,进行微镜面阵列18之位置调整,以消除位置偏差。
申请公布号 TW200502708 申请公布日期 2005.01.16
申请号 TW093107942 申请日期 2004.03.24
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 高田伦久
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本
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