| 发明名称 |
MONITORING APPARATUS AND METHOD PARTICULARLY USEFUL IN PHOTOLITHOGRAPHICALLY PROCESSING SUBSTRATES |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IL130919(A) |
申请公布日期 |
2005.03.20 |
| 申请号 |
IL19990130919 |
申请日期 |
1999.07.13 |
| 申请人 |
NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD. |
发明人 |
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| 分类号 |
H01L;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66 |
主分类号 |
H01L |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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