| 主权项 |
1.一种空白光罩,在一透光性基板上具有以一金属作为主成分的一层及/或多层遮光膜,其特征在于该遮光膜上具有一反射防止膜,该反射防止膜至少包括矽、氧及/或氮。2.如申请专利范围第1项所述之空白光罩,其特征在于,对于波长比200nm短的波长中所选择的一预定波长,该空白光罩的表面反射率在10%以下。3.如申请专利范围第1项或第2项所述之空白光罩,其特征在于,该遮光膜与该反射防止膜之间具有一反射率降低膜,该反射率降低膜之材料的折射率是大于构成该遮光膜之材料的折射率,且小于构成该反射防止膜之材料的折射率。4.如申请专利范围第1项或第2项中任一项所述之空白光罩,其特征在于该金属为铬、钽、钨或该些金属与其他金属的合金,又或者在该金属或合金中包含选自于包含氧、氮、碳、硼或氢中一种或二种以上的材料。5.如申请专利范围第1或第2项中任一项所述之空白光罩,其特征在于,在该遮光膜与该透光性基板之间具有一相移层。6.如申请专利范围第1项或第2项中任一项所述之空白光罩,对于150nm-300nm的波长频宽,该空白光罩之表面反射率在15%以下。7.如申请专利范围第1项或第2项中任一项所述之空白光罩,对于150nm-250nm的波长频宽,该空白光罩之表面反射率在10%以下。8.一种光罩,其特征在于使用如申请专利范围第1项至第7项中任一项所述之空白光罩而制成。9.一种图案转印方法,其特征在于,使用如申请专利范围第8项所述之光罩进行图案转印。图式简单说明:图1是绘示依照本发明一较佳实施例的一种空白光罩制作示意图。图2是绘示依照本发明一较佳实施例的一种光罩制作示意图。图3(a)-(c)是绘示依照本发明一较佳实施例的一种空白光罩之制作方法说明图。图4(a)-(d)是绘示依照本发明一较佳实施例的一种光罩之制作方法说明图。图5是绘示依照本发明的实施例1与比较例1中制作的空白光罩的反射率特性示意图。图6是绘示依照本发明的实施例2或3与比较例2中制作的空白光罩的反射率特性示意图。图7是绘示依照本发明的实施例4中制作的空白光罩的反射率特性示意图。 |
