用于积体电路制造之多层覆盖量测及修正技术

摘要

本发明揭示一种促使在晶圆(402)之多层间之覆盖易于量测及修正之系统。该系统包括代表在三层或三层以上之晶圆(402)间之覆盖之覆盖标的(406)及决定存在于该覆盖标的(406)覆盖误差之量测组件(408)，藉以决定在该三层或三层以上之晶圆(402)间之覆盖误差。可以经由提供控制组件(410)以修正在邻接及非邻接层间之覆盖误差，其中该修正是依据至少部分由该量测组件(408)所获得之量测。