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发明名称 METHOD FOR FORMING ILD IN A SEMICONDUCTOR DEVICE PROCESS
摘要
申请公布号 KR20050102002(A) 申请公布日期 2005.10.25
申请号 KR20040027263 申请日期 2004.04.20
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 HWANG, CHANG SUN
分类号 H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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