| 主权项 |
1.一种全像图作成方法,其特征是具备有:第1工程,以被显示在空间光调变元件或扩散幕上之图像作为物体光,使该物体光经由透镜,与参考光一起照射在第1记录面上,在该第1记录面记录该物体光和该参考光之干涉光藉以作成主全像图;和第2工程,在该物体光经由该透镜形成之实像或虚像位置配置第2记录面,使参考光或共轭参考光照射在该主全像图成为使该图像成像在该第2记录面上,另外使参考光或共轭参考光照射在该第2记录面,用来将该等之干涉光记录在该第2记录面藉以作成副全像图。2.如申请专利范围第1项之全像图作成方法,其中该第1工程具备有元件全像图作成工程,以从指定之视点实际观察到或假想观察到之视差图像作为该物体光,在该第1记录面上之与该视点对应之位置,记录该物体光和该参考光之干涉光,以视点数目成为多个之方式重复进行该元件全像图作成工程。3.如申请专利范围第1项之全像图作成方法,其中该第1工程具备有元件全像图作成工程,以从多个视点实际观际到或假想观察到之视差图像作为该物体光,在该第1记录面上之与该视点对应之位置,记录该物体光与该参考光之干涉光。图式简单说明:第1图是具备有用在第1实施例之主全像图之作成之光学系统之全像图作成装置之说明图。第2图是说明图,用来说明第1实施例之从全像图作成和再生时之光照射。第3图是具备有用在第2实施例之主全像图之作成之光学系统之全像图作成装置之说明图。第4图是说明图,用来说明第2实施例之从全像图作成和再生时之光照射。第5图是具备有用在第3实施例之主全像图之作成之光学系统之全像图作成装置之说明图。第6图是具备有用在第4实施例之主全像图之作成之光学系统之全像图作成装置之说明图。第7图是具备有用在第5实施例之主全像图之作成之光学系统之全像图作成装置之说明图。第8图是端面图,用来表示被配置在第5实施例所示之感光材料12近傍之由遮罩板10,扩散幕7'等构成之全像图记录单位部之纵向剖面构造。第9图是说明图,用来表示习知例1之2次元全像图作成装置之多视点图像收集法。第10图是说明图,用来表示习知例1之2次元全像图作成方法。第11图是说明图,用来表示习知例1之2次元全像图作成方法。第12图是习知例2之2次元全像图作成装置之构造图。 |
