发明名称 多层基板间交互连结之结构及其制造方法
摘要 本发明揭露一种多层基板间交互连结之结构及其制造方法。此结构包含第一多层基板、第二多层基板。第一多层基板具有第一金属层、第一介电层以及介层洞,其中一第一金属层端缘连接其对应的第一介电层之端缘,与其他相邻第一金属层和第一介电层端缘系相对分离。第二多层基板具有第二金属层与第二介电层,一第二金属层端缘相连接其对应的第二介电层之端缘,与其他相邻第二金属层和第二介电层端缘系相对分离。介层洞位于第一多层基板之第一介电层端缘,介层洞内具有一导电部,第一金属层之导电部系与第二多层基板之第二金属层相互黏结。
申请公布号 TW200826253 申请公布日期 2008.06.16
申请号 TW095145482 申请日期 2006.12.06
申请人 巨擘科技股份有限公司 发明人 杨之光
分类号 H01L23/31(2006.01) 主分类号 H01L23/31(2006.01)
代理机构 代理人 刘育志
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区研新四路6号
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