发明名称 | 多层基板间交互连结之结构及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明揭露一种多层基板间交互连结之结构及其制造方法。此结构包含第一多层基板、第二多层基板。第一多层基板具有第一金属层、第一介电层以及介层洞,其中一第一金属层端缘连接其对应的第一介电层之端缘,与其他相邻第一金属层和第一介电层端缘系相对分离。第二多层基板具有第二金属层与第二介电层,一第二金属层端缘相连接其对应的第二介电层之端缘,与其他相邻第二金属层和第二介电层端缘系相对分离。介层洞位于第一多层基板之第一介电层端缘,介层洞内具有一导电部,第一金属层之导电部系与第二多层基板之第二金属层相互黏结。 | ||
申请公布号 | TW200826253 | 申请公布日期 | 2008.06.16 |
申请号 | TW095145482 | 申请日期 | 2006.12.06 |
申请人 | 巨擘科技股份有限公司 | 发明人 | 杨之光 |
分类号 | H01L23/31(2006.01) | 主分类号 | H01L23/31(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 刘育志 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区研新四路6号 |