| 发明名称 |
SILICON FILM AND PROCESS FOR FORMING SILICON FILM |
| 摘要 |
A process for forming a thick silicon film comprises depositing a thick film of silicon by ultra-high vacuum electron beam deposition. |
| 申请公布号 |
WO2016201526(A1) |
申请公布日期 |
2016.12.22 |
| 申请号 |
WO2016AU50520 |
申请日期 |
2016.06.20 |
| 申请人 |
KWOK, Chee Yee;MICHAEL, Aron |
发明人 |
KWOK, Chee Yee;MICHAEL, Aron |
| 分类号 |
C23C14/30;C23C14/00;C23C14/14;C23C14/16;C23C14/24;H01L21/00;H01L21/62;H01L21/70;H01L21/77;H01L27/00;H01L27/20;H01L41/00;H01L41/02;H01L41/04;H01L41/08;H01L41/18;H01L41/35 |
主分类号 |
C23C14/30 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
