| 主权项 |
1.一种供制造马来酐用之定形氧化触媒结构,其定 形结构 包括立体几何形式在其外表面中有至少1种空隙空 间布置 ,定形结构特微在(a)含有混合钒与磷氧化物组成的 催化 物质,与(b)展现(i)无空隙空间立体几何形式所表现 的几 何体积之30%至67%;()外部几何表面积/几何体积比 至少20cm-1;()松密度自0.4g/cm3至 1.4g/cm3;及()机械抗力足够实质保持定形结构在 处 理与使用条件下的结构整体。2.如申请专利范围 第1项之定形氧化触媒结构,其中立体 几何形式系自包括圆柱,立方体,圆锥,截头圆锥,角 锥 ,截头角锥,球及棱柱体等。3.如申请专利范围第1 项之定形氧化触媒结构,其中空隙 空间系等间隔地在其中设置此等空隙空间的外表 面上。4.如申请专利范围第1项之定形氧化触媒结 构,其中空隙 空间系自包括沟、孔与窝等群中选出。5.如申请 专利范围第1项之定形氧化触媒结构,其中空隙 空间系自包括有角的与弯圆等形状之群中选出。6 .如申请专利范围第5项之定形氧化触媒结构,其中 空隙 空间为弯圆的形状。7.如申请专利范围第1项之定 形氧化触媒结构,其中其几 何体积为无空隙空间立体几何形式的体积之40%至 61%。8.如申请专利范围第1项之定形氧化触媒结构, 其中外部 几何表面积/几何体积比为至少27cm-1。9.如申请专 利范围第1项之定形氧化触媒结构,其中其松 密度系自0.5g/cm3至1.1g/cm3。10.如申请专利范围第1 项之定形氧化触媒结构,其中由侧 面破碎强度测定的机械抗力系自4.45N至222.4N。11. 如申请专利范围第1项之定形氧化触媒结构其中侧 面破 碎强度系自13.3N至89N。12.如申请专利范围第1项之 定形氧化触媒结构,其中定形 结构表现基础宽度自 3.175mm至6.35mm及高度/基础宽度比自 0.5至2.0。13.如申请专利范围第1项之定形氧化触媒 结构,其中催化 物质由如下实验代表VPxOyMz式内M为至少一种自包 括元素 周期表内IA、IB、ⅡA、ⅡB、ⅢA、ⅢB、ⅣA、ⅣB、 VA、 VB、ⅥB与ⅦB族中元素等群内选出之促进剂元素;X 系自 0.5至2.0之数;Y为满足V、P及M以氧化态存在组合物 内的 价数所取之数;Z系自0至1.0之数。14.如申请专利范 围第13项之定形氧化触媒结构,其中X为 自0.95至1.35之数;Z系至多0.5之数。15.如申请专利范 围第13项之定形氧化触媒结构,其中M系 自包括元素周期表内ⅠA及ⅡB等族元素群中选出 。16.如申请专利范围第15项之定形氧化触媒结构, 其中M选 自ⅠA族者为锂,选自ⅡB族者为锌。17.如申请专利 范围第13项之定形氧化触媒结构,其中M系 自包括元素周期内ⅠA族及ⅧB族之元素群中选出 。18.如申请专利范围第17项之定形氧化触媒结构, 其中M选 |
